例文 (228件) |
脱保護基の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 228件
ベンジル保護基等の水素添加反応による選択的脱保護例文帳に追加
SELECTIVE DEPROTECTION BY HYDROGENATION REACTION OF BENZYL PROTECTIVE GROUP OR THE LIKE - 特許庁
イソプロピリデン基で保護した化合物の選択的脱保護方法例文帳に追加
METHOD FOR SELECTIVELY DEPROTECTING COMPOUND PROTECTED WITH ISOPROPYLIDENE GROUP - 特許庁
9−フルオレニルメトキシカルボニル基の脱保護基方法例文帳に追加
METHOD FOR DEPROTECTING 9-FLUORENYLMETHOXYCARBONYL GROUP FROM SUBSTRATE - 特許庁
アルキニルメチル基で保護したカルボキシル基および水酸基の脱保護方法例文帳に追加
DEPROTECTION OF CARBOXYL GROUP AND HYDROXY GROUP PROTECTED WITH ALKYNYLMETHYL GROUP - 特許庁
アルキニルメチルオキシカルボニル基で保護したアミノ基および水酸基の脱保護方法例文帳に追加
DEPROTECTION OF AMINO GROUP AND HYDROXY GROUP PROTECTED WITH ALKYNYLMETHYLOXYCARBONYL GROUP - 特許庁
中性条件下で脱保護可能な核酸塩基のアミノ基の保護基を提供する。例文帳に追加
To provide a nucleic acid base amino group-protecting group which can be removed under neutral conditions. - 特許庁
リボヌクレオシドの2’水酸基の脱保護方法例文帳に追加
METHOD FOR REMOVING PROTECTING GROUP FROM 2'-HYDROXYL GROUP OF RIBONUCLEOSIDE - 特許庁
t−ブトキシカルボニル基で保護したフェノール性水酸基の脱保護方法例文帳に追加
METHOD OF DEPROTECTING PHENOLIC HYDROXYL GROUP PROTECTED WITH TERTIARY-BUTOXYCARBONYL GROUP - 特許庁
本プロセスによれば、従来のようなヒドロキシ基の保護ならびに脱保護は全く必要としない。例文帳に追加
The protection and deprotection of a hydroxy group are not required at all according to the process as opposed to the conventional process. - 特許庁
また、N−ベンジルオキシカルボニル保護ベンゼンスルホンアミド誘導体にメタンスルホン酸を作用させてベンジルオキシカルボニル保護基を脱保護する。例文帳に追加
Further, methanesulfonic acid is allowed to act on N-benzyloxycarbonyl- protected benzenesulfonamide derivative to deprotect the benzyloxycarbonyl group. - 特許庁
水酸基が保護基で置換されてなる保護化ビニールフェノールポリマーに含まれる保護基を脱離させてビニールフェノールポリマーを生成する際に、保護基を脱離させる程度を正確に制御できるようにする。例文帳に追加
To control accurately the degree of removal of a protecting group in preparation of a vinylphenol polymer by removing a protecting group contained in a protected vinylphenol polymer in which a hydroxy group is substituted by a protecting group. - 特許庁
基板から剥離した保護カバーの基板からの脱落を防ぐ。例文帳に追加
To prevent slipping-off of a protective cover which has been peeled off from the substrate, from a substrate. - 特許庁
本発明は、一般式(1)化1で表される新規ジアミンであり、また、水酸基を有するジアミンのアミノ基を保護基で保護した後で、反応基を導入し、保護基を脱保護することを特徴とするジアミンおよびそれからなるポリイミド、ポリイソイミドを提供する。例文帳に追加
保護キャップは、ハブの基端部と着脱可能に係合している。例文帳に追加
A protective cap is removably engaged with the base end part of the hub. - 特許庁
スルホニルエチルカーバメト基を有し、下記一般式(I)で表される、非プロトン性溶媒中で脱保護可能なインドール基用保護基。例文帳に追加
The protecting group for an indole group, comprising a sulfonylethylcarbamate group is represented by formula (I): CH_3COOCH_2CH_2SO_2R, which protective group can be removed in an aprotic solvent. - 特許庁
エチルニトリル保護基を有するホスフェート基の脱保護中に生成したアクリロニトリルを捕獲する化合物に関する。例文帳に追加
Compounds that scavenge acrylonitrile produced during the deprotection of phosphate groups bearing ethylnitrile protecting groups, are provided. - 特許庁
、水蒸気等からの保護が可能であり、併せて膜が形成された基体表面の脱脂を行うことができる一時保護膜が形成された一時保護膜付基体、及びその一時保護膜を形成するための一時保護膜形成用樹脂組成物を提供する。例文帳に追加
To provide a base body having a temporary protective film wherein a temporary protective film is formed which enables the protection from water vapor or the like, and in addition, the degreasing of the surface of the base body, for which the film has been formed, and to provide a resin composition for the formation of the temporary protective film for forming the temporary protective film. - 特許庁
回路基板を収容保護する保護ケースの裏側に、シールド板を指先操作で手早く簡単に着脱できるようにする。例文帳に追加
To provide an electric control unit for a game which can insert or pull a shield plate on the backside of a protective case which holds and protects a circuit board quickly and simply by fingertip operation. - 特許庁
またアミノ基の保護基がベンジルオキシカルボニル基である上記ベンゼンスルホンアミド誘導体において、メタンスルホン酸を作用させることによって、保護基を脱保護する。例文帳に追加
In the benzenesulfonamide derivative in which a protecting group of the amino group is benzyloxycarbonyl group, the protecting group is removed by reacting methanesulfonic acid. - 特許庁
同一分子内に存在する二つの水酸基を同時に保護でき、なおかつ適切な条件で処理することで一方の水酸基のみを選択的に脱保護可能な保護基を提供する。例文帳に追加
To obtain a protecting group that simultaneously protects two hydroxy groups existing in the same molecule and selectively deprotects only one hydroxy group by treatment under a proper condition. - 特許庁
また別に解離性基を保護した状態でメチン色素を縮合合成し、得られた色素の解離性基の保護を脱保護処理する解離性基を有するメチン色素の製造方法。例文帳に追加
The other objective method for producing a methine dye having dissociable group comprises making a condensation synthesis of a methine dye in a condition that protects the dissociable group therein and deprotecting the dissociable group in the resultant dye. - 特許庁
保護基およびイオン性基を含有する高分子電解質材料を成型し、得られた成型体に含まれる該保護基の一部を脱保護する高分子電解質成型体の製造方法で、該保護基を含む構成単位が、下記式で表される構成単位である。例文帳に追加
This is the manufacturing method of the polymer electrolyte mold to mold the polymer electrolyte material containing a protection group and an ionizable group, and to deprotect a part of the protection group contained in the obtained mold, and a structural unit containing the protection group is the structural unit represented by the formula. - 特許庁
除去可能な保護基を有するヌクレオチド、ポリヌクレオチドシークエンシング方法におけるその使用及び保護基の化学的脱保護のための方法の提供。例文帳に追加
To provide a nucleotide having a removable protecting group, to provide use thereof in a polynucleotide sequencing method, and to provide a method for chemically deprotecting a protecting group. - 特許庁
ペプチドまたはペプチド模倣分子を−Sスルホネート基及び酸不安定保護基で保護化された−SH基を含有する線状前駆体に変換し、無水非プロトン性非極性有機溶媒中、pH3未満で、少なくとも1つのカルボカチオンスカベンジャーの存在下でこの保護されたSH基を選択的に脱保護し、脱保護された線状前駆体をpH5〜9で溶解し、環化させる。例文帳に追加
The method comprises converting the peptide or the peptide analogous molecule to a linear precursor containing an -S sulfonate group and an -SH group protected by an acid-unstable protective group, selectively deprotecting the protected SH group in an anhydrous aprotic nonpolar organic solvent at pH<3 in the presence of at least one carbocation scavenger, and dissolving the deprotected linear precursor at pH 5-9 to cyclize the precursor. - 特許庁
逆反応抑制剤は、離脱した保護基がベース樹脂に再結合するのを抑制する。例文帳に追加
The agent inhibiting reverse reaction inhibits recombination reaction of the eliminated protective groups to the base resin. - 特許庁
基板保護部材は軽量材料からなり、フォークへは着脱容易に設けられている。例文帳に追加
The substrate protective member includes a light weight material and is provided so as to be easily attached and detached to/from the forks. - 特許庁
外部機器への着脱時、回路基板を保護する光トランシーバ用ケースを提供する。例文帳に追加
To provide an optical transceiver case that protects a circuit board in the case of mounting onto or demounting from an external apparatus. - 特許庁
保護剤の化学修飾により、一部のアミノ基が保護されたトロンビンを水不溶性担体に固定し、次いで、保護されたアミノ基を脱保護し、トロンビンを化学処理し、トロンビン誘導体とすることによって得られる固定化物である。例文帳に追加
The immobilized material is produced by protecting a part of amino groups of thrombin by the chemical modification with a protecting agent, immobilizing the protected thrombin to a water-insoluble carrier, deprotecting the protected amino groups, and chemically treating the thrombin to form a thrombin derivative. - 特許庁
環上にN窒素を含む環式ポリアミンは、容易な脱保護を提供する特定のフッ素含有試薬を使用することによって、N−1様式(例えば、1個のアミノ基を除いてすべて保護される)で高収率で保護される。例文帳に追加
Cyclic polyamines containing N nitrogens on the ring are protected with high yields in an N-1 manner, e.g. all protected but one amino group, by using certain fluoro-containing agents that offer easy deprotection. - 特許庁
更にこの化合物の2’−β位のフッ素以外のハロゲン原子を還元し、5’位水酸基の脱保護を行い、必要に応じ核酸塩基の保護、脱保護、修飾を行うことにより、3’−α位がフッ素化され、2’位が脱オキシ化されたヌクレオシド誘導体を合成することができる。例文帳に追加
Further the halogen atom except the fluorine atom at the 2'-β position of the compound is reduced, a hydroxy group at the 5'-position is deprotected and, if required, protection, deprotection and modification of nucleic acid base are carried out to synthesize the objective nucleoside derivative fluorinated at the 3'-α position and deoxidized at the 2'-position. - 特許庁
3−ヒドロキシフェナレン−1−オン誘導体のヒドロキシル基を保護し、次いで、1位カルボニル基をアルコールへ還元し、そのアルコールの脱水反応、ヒドロキシル基の保護基の脱保護反応を行うことによりフェナレン−1−オン誘導体を得ることが出来る。例文帳に追加
This phenalen-1-one derivative can be obtained by protecting the hydroxy group of a 3-hydroxyphenalen-1-one derivative, then reducing a carbonyl group at the first position to an alcohol, and carrying out deprotecting reaction of the protecting group of the hydroxy group. - 特許庁
分離の煩雑さの原因となる塩基を実質的に使用せず、基質の分解を抑制し、短時間、高収率にて、9−フルオレニルメトキシカルボニル基を脱保護する脱保護基法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for deprotecting 9-fluorenylmethoxycarbonyl group from a substrate protected with 9-fluorenylmethoxycarbonyl group in a short time and high yield by suppressing decomposition of the substrate without substantially using a base causing complicatedness of separation. - 特許庁
当該方法は、光活性基により重合性モノマー上の官能基を保護し保護されたモノマーを形成するステップと、前記保護されたモノマーを重合させて保護されたポリマーを形成するステップと、官能基から光活性基を脱離させる紫外波長光に前記保護されたポリマーさらし、それによって官能基化されたラテックス粒子を形成するステップとを包含する。例文帳に追加
The method comprises a step for protecting functional groups present on polymerizable monomers with photoactive groups to form protected monomers, a step for polymerizing the protected monomers to form a protected polymer and a step for exposing the protected polymer to an ultraviolet light of wavelength that removes the photoactive groups from the functional groups, thereby forming the functionalized latex particles. - 特許庁
(式中、R_1はモノクロロアセチル基など、R_2は糖鎖残基、R_3は水素原子又は水酸基の保護基を示す) 本発明によれば、意図する次ぎの反応に合わせて、3位の水酸基の保護基と、4位及び6位の水酸基の保護基を選択的に脱離させることができる。例文帳に追加
A protecting group of hydroxy group at 3-position and protecting groups of hydroxy groups at 4- and 6-positions can selectively be eliminated depending on the next intended reaction. - 特許庁
アルキルアルコキシシリル基により保護された水酸基を含有し、脱保護により脱離したシリル基がシルセスキオキサン骨格に組み込まれるアルコキシシランを提供する。例文帳に追加
To provide an alkoxysilane comprising a hydroxy group protected by an alkylalkoxysilyl group wherein a silyl group detached from the alkylalkoxysilyl group by deprotection is integrated into its silsesquioxane skeleton. - 特許庁
ロバスタチンを無機塩基及び2級又は3級アルコールで処理する事により脱アシル化してジオールラクトンを生成し、次いでケタール又はアセタール保護基を用いることにより選択的保護、アシル化、脱保護・ラクトン化して、シンバスタチンを生成する製造方法。例文帳に追加
The method includes deacylating lovastatin by treating with an inorganic base and a secondary or tertiary alcohol to thereby form diol lactone, and then selectively protecting by using a ketal or acetal protective group, acylating, deprotecting and lactonizing the diol lactone, to thereby give simvastatin. - 特許庁
シアル酸の水酸基を適当な保護基で,5位アミノ基を2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル基で保護し,アノマー位に脱離基としてフェニルチオ基を導入した。例文帳に追加
The hydroxy group of a sialic acid is protected with a proper protective group, the 5-amino group of the sialic acid is protected with 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group and a phenylthio group is introduced to the anomer site as an eliminable group. - 特許庁
式(I)において5’位が水酸基、2位がアミノ基の化合物を出発物質として、水酸基保護工程、アミノ基のハロゲン基への変換工程、水酸基脱保護工程を経る式(I)の化合物の製造方法。例文帳に追加
The method of producing the compound of formula (I) includes: a step of deprotecting a hydroxy group in which a compound of formula (I) having a hydroxy group in the 5-position and an amino group in the 2-position is used as a starting material; and a step of transforming an amino group to a halogen group. - 特許庁
このNAP保護基の使用により、脱Bn保護基の反応よりも容易で化学構造特異性の高い酸化反応により、脱NAP反応が可能となり、高収率でCTX3Cを得ることができることを見出した。例文帳に追加
The deprotection reaction of the NAP group is made possible by an oxidation reaction by which the deprotection is carried out more easily than that of the Bn group, and which has high chemical structure specificity, and the CRX3C can be produced in high yield. - 特許庁
アシル基によって保護されたフェノール性水酸基を有する単位構造を有する単位構造を含むポリマーの脱保護反応において、より短時間に、他の部分構造を保存したまま脱アシル化を行うことができ、かつポリマーとして取出した際、反応に係わるポリマー以外の物質による汚染を高度に抑制可能な保護ポリマーの脱保護方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for deprotecting a protected polymer, by deacylating a polymer in a short period of time in the deprotection reaction of the polymer comprising a unit structure having a phenolic hydroxy group protected with an acyl group, while maintaining the other structure, and by taking out the deacylated polymer while highly suppressing contamination of the deacylated polymer with a substance other than the polymer taking part in the reaction. - 特許庁
新規合成ルートを提案し、シガトキシン類の収率および製造の容易性を改善するため、全合成の最終工程で使用する水酸基の保護基として、比較的温和な条件において、基質特異的に脱保護基反応が進行する保護基を選択し、新規全合成ルートを確立する。例文帳に追加
To provide a new synthetic route and to establish the new total synthetic route by selecting a protective group of which a deprotection reaction progresses substrate-specifically in a comparative mild condition, as the protective group of a hydroxy group used in the final step of the total synthesis to improve the yield of ciguatoxins and the easiness of the production. - 特許庁
保護された化学的官能基を有する分子に近接する電極をその表面に有する基質を準備する工程、該分子の保護された化学的官能基を脱保護できる電気化学的試剤を生成させるのに充分に該電極に電位を適用する工程、および脱保護された化学的官能基をモノマーまたは予め形成された分子と結合する工程を含んでなる方法。例文帳に追加
The method comprises the step of preparing a substrate having electrodes on its surface close to a molecule having a protected chemical functional group, the step of applying between the electrodes an electric potential large enough to form an electrochemical reagent capable of deprotecting the protected chemical functional group of the molecule, and the step of bonding the deprotected chemical functional group to a monomer or a preformed molecule. - 特許庁
フェノール基が保護された2−ベンジル−4−メチルフェノール化合物を塩基で処理した後、2−(ジイソプロピルアミノ)エチル化およびそれに続くフェノール基の保護基の脱保護により、経済的に、短い工程で工業的にトルテロジンを製造する。例文帳に追加
Tolterodine is economically and industrially produced in the short process by treating a phenol-protected 2-benzyl-4-methylphenol compound with a base, carrying out 2-(diisopropylamino)-ethylation, subsequently deprotecting the protection group of the phenol group. - 特許庁
アシル基により保護されたフェノール性水酸基を有する単位構造を少なくとも含む保護ポリマーと、ClogPの値が1.00以下である第1級または第2級アミン化合物から選ばれる脱保護試薬(但し、第2級アミン化合物はアミノ基の窒素原子に結合する二つの炭素原子がいずれも第3級ではない)とを、有機溶剤に溶解して脱保護するステップを少なくとも含む、保護ポリマーの脱保護方法が提供できる。例文帳に追加
The method for deprotecting a protected polymer includes at least a step of dissolving in an organic solvent the protected polymer comprising at least a unit structure having a phenolic hydroxy group protected with an acyl group and a deprotecting reagent selected from primary or secondary amine compounds each having a ClogP value of 1.00 or less, with the proviso that in the secondary amine compound, neither of the two carbon atoms coupled to the nitrogen atom of the amino group is tertiary. - 特許庁
1分子中に少なくとも1個以上カルボキシル基及びアミド基を共有し、該カルボキシル基が熱によって脱離可能な保護基で保護されていることを特徴とする硬化促進剤とエポキシ化合物を含む熱硬化性樹脂組成物。例文帳に追加
The photosensitive composition comprises at least a polymer having one or more either carboxyl group or ester group, a polymerizable compound, a photoinitiator, a thermal crosslinking agent and the curing accelerator. - 特許庁
湿気硬化性を有する液状高分子または液状モノマーと、アミン化合物のアミノ基がアミン保護基により保護されてなり、紫外線により前記アミン保護基が脱離して前記アミン化合物が発生するアミン発生剤と、を含有する液状組成物とする。例文帳に追加
The liquid composition includes: a liquid polymer or a liquid monomer having moisture curability; and an amine generating agent in which an amino group of an amine compound is protected by an amine protective group, wherein the amine protective group escapes by ultraviolet rays to generate the amine compound. - 特許庁
不溶性顔料のカルボニル基の酸素原子が保護基によりエノール保護された顔料前駆体について、前記保護基を脱離させて、前記顔料前駆体を前記顔料に転換させる工程を含む、顔料微粒子の製造方法。例文帳に追加
The method for producing a pigment fine particle comprises a process for, in a pigment precursor in which the oxygen atom of the carbonyl group of an insoluble pigment is enol-protected with a protective group, eliminating the protective group and converting the pigment precursor into the pigment. - 特許庁
本発明の高分子電解質成型体の製造方法は、少なくとも保護基およびイオン性基を含有する高分子電解質材料を成型した後、成型体に含有される該保護基の少なくとも一部を脱保護せしめることを特徴とするものである。例文帳に追加
In a method for manufacturing a polymer electrolyte molded body of the present invention, a polymer electrolyte material containing at least a protective group and an ionic group is molded, and then at least a part of the protective group contained in the molded body is deprotected. - 特許庁
本発明の高分子電解質成型体の製造方法は、少なくとも保護基およびイオン性基を含有する高分子電解質材料を成型した後、成型体に含有される該保護基の少なくとも一部を脱保護せしめることを特徴とするものである。例文帳に追加
The manufacturing method of a polyelectrolyte mold includes a process of molding a polyelectrolyte material including at least a protective group and an ionic group, and then deprotecting at least a part of the protective group contained in the mold. - 特許庁
脱保護によりイオン交換基に変換可能な官能基を有するブロックと、脱保護によりイオン交換基に変換可能な官能基を実質的に有しないブロックとを有する共重合体を製膜した後、前記官能基を、酸、塩基および塩からなる群より選ばれる1種以上を含む液中で脱保護によりイオン交換基に変換することを特徴とする高分子電解質膜の製造方法。例文帳に追加
In the manufacturing method, a copolymer which has a block having a functional group capable of being converted into an ion exchange group by deprotection and a block which does not have, in substance, a functional group capable of converting into the ion exchange group by deprotection is film-formed and thereafter, the functional group is converted into the ion exchange group by deprotection in a liquid containing one kind or more selected from acid, base and salt. - 特許庁
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