| 意味 | 例文 (9件) |
位相写像の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9件
グラフからグラフへの位相保持写像を実現する。例文帳に追加
To materialize topological mapping between graphs. - 特許庁
光を位相シフトマスク経由で基板に照射する場合に、位相シフトマスクの位相シフト効果を向上させ、解像度の高い転写像を得ることを可能にする。例文帳に追加
To obtain a transfer image with high resolution by enhancing a phase shift effect of a phase shift mask in irradiating a substrate with light via the phase shift mask. - 特許庁
位相シフトマスク１０を用いた投影写像によって所望パターンを得るように構成された露光装置において、その投影写像の際に、前記位相シフトマスク１０上に形成されたパターンの構成辺の方向と平行になるように、その位相シフトマスク１０に対する照明光の偏光方向を選択する偏光状態選択ユニット２０を設ける。例文帳に追加
In an aligner arranged to obtain a desired pattern by projection mapping using a phase shift mask 10, a polarization condition selecting unit 20 for selecting the polarization direction of illumination light with respect to the phase shift mask 10 is provided in parallel with the direction of the compositional side of a pattern formed on the phase shift mask 10 at the time of projection mapping. - 特許庁
第１，第２の一次元センサ手段からの信号については、正規化を行った上で、位相平面上に写像することで信号軌跡を形成し、さらに、信号軌跡についての相関係数を求める。例文帳に追加
A signal locus is formed by executing mapping on a phase plane, after normalized, as to signals from a first and second one-dimensional sensor means, and a correlation coefficient is found as to the signal locus. - 特許庁
位相シフトマスクを用いた投影写像によって所望パターンを得る場合において、寸法ルールの厳しいゲート線等の露光における解像性を高めることを可能にしつつ、そのマスク製造の困難さを克服する。例文帳に追加
To conquer the difficulty of mask production while enhancing resolution in the exposure of a gate line, or the like, of a severe dimensional rule when a desired pattern is obtained by projection mapping using a phase shift mask. - 特許庁
位相シフトマスクを用いた投影写像によって所望パターンを得る場合において、寸法ルールの厳しいゲート線等の露光における解像性を高めること露光装置の偏光照明を提供する。例文帳に追加
To provide polarization illumination of an exposure apparatus with which resolution property can be enhanced, in exposure of gate lines, or the like, having strict dimensional rules, when a desired pattern is obtained by projection mapping that uses a phase shift mask. - 特許庁
組合せモジュール１１４は射影されたＦ_０輪郭信号１００とＦ_０輪郭パターン信号１１２とを、位相空間で規定される同相写像を用いて融合し、配置空間内に再構築されたＦ_０輪郭を生成する。例文帳に追加
The combining module 114 fuses the projected F_0 contour signal 100 and an F_0 contour pattern signal 112 by using a homeomorphism defined in the phase space, and generates the reconstructed F_0 contour in a configuration space. - 特許庁
この写像モデルを組み立て、また位相的に等しい形状を維持して、形状モデルと幾何的に等しい形状に変形して、基本モデル７６を作成する。例文帳に追加
Those mapping models are assembled, and deformed into a shape geometrically equal to a geometric model while their topologically equal shapes are maintained, so that a basic model 76 is prepared. - 特許庁
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