「レジスト感度」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

高感度ネガ型レジスト１４と低感度ネガ型レジスト１５とを用い、遮光帯領域１０ａでは高感度ネガ型レジスト１４ａと低感度ネガ型レジスト１５ａとを露光し、ハーフトーン領域１０ｂでは高感度ネガ型レジスト１４ｂを露光するように構成した。例文帳に追加

This method comprises using a high-sensitivity negative type resist 14 and a low-sensitivity type negative resist 15 and exposing the high- sensitivity negative type resist 14a and the low-sensitivity type negative resist 15a in a light shielding band region 10a and exposing the high-sensitivity negative type resist 14b in a halftone region 10b. - 特許庁

これらのレジストがポジ型の場合は、その露光感度は、上層レジスト１０２ｂが高く、下層レジスト１０２ａが低くなるようにする。例文帳に追加

When these resists are a positive type, exposure sensitivity is controlled to be high in the upper layer resist 102b and low in the lower layer resist 102a. - 特許庁

高感度で高解像性のレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a negative resist composition having high sensitivity and capable of forming a high resolution resist pattern, and a resist pattern forming method. - 特許庁

上層に形成されるレジスト層３の感度より、下層に形成されるレジスト層２の感度を小さくし、レジスト層３の厚さを、レジスト層２の厚さより厚くしている。例文帳に追加

In the stamper, the sensitivity of a resist layer 2 to be formed in an under layer is made smaller than that of a resist layer 3 to be formed in an upper layer and the thickness of the resist layer 3 is made thicker than that of the resist layer 2. - 特許庁

高感度及び高解像度のフォトレジスト材料を提供する。例文帳に追加

To provide a photoresist material with high sensitivity and high resolution. - 特許庁

高感度、高解像度のフォトレジスト材料を提供する。例文帳に追加

To provide a photoresist material exhibiting high sensitivity and high resolution. - 特許庁

電子ベース・リソグラフィのための高感度レジスト組成物例文帳に追加

HIGH SENSITIVITY RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON-BASED LITHOGRAPHY - 特許庁

高感度かつ高解像度の化学増幅型レジスト用樹脂を提供する。例文帳に追加

To provide a chemically amplified resist resin having high sensitivity and high resolution. - 特許庁

感度及び解像力が優れたレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a resist composition excellent in sensitivity and resolving power. - 特許庁

感度、解像力及びプロファイルが優れたレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a resist composition excellent in sensitivity, resolving power and profile. - 特許庁

基板表面に塗布したレジストを露光する方法であって、露光時に、前記レジストの感度が極大値を持つ温度に前記レジストの温度を制御し、また、前記レジストの感度の極大値からの相対的な低下が所定値以下である範囲に、該レジストの温度を制御する。例文帳に追加

In this exposure method, a resist applied to the surface of a substrate is exposed. - 特許庁

高感度、高解像性で、基板面内で均一なレジストパターンサイズが得られ、広いＰＥＢマージンを有するポジ型レジスト組成物及び化学増幅型ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。例文帳に追加

To provide a positive resist composition having high sensitivity and high resolution, ensuring uniform resist pattern size in a substrate surface and having a wide margin for PEB, and to provide a resist pattern forming method using a chemically amplified positive resist composition. - 特許庁

レジストの解像度を損うことなく、レジストの感度を向上させることができるレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いた半導体装置の製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a resist composition for improving sensitivity of a resist without deteriorating the resolution thereof, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device using the resist composition. - 特許庁

リソグラフィー特性及びレジストパターン形状に優れ且つ高感度なレジストパターンを形成できるレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。例文帳に追加

To provide a resist composition from which a resist pattern excellent in lithographic characteristics and a resist pattern profile and having high sensitivity can be formed, and to provide a method for forming the resist pattern. - 特許庁

透明性を改良し、高感度および高解像度のフォトレジスト用樹脂およびフォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a resin for photoresist and a photoresist composition having high sensitivity, high resolution and improving transparency. - 特許庁

次に、識別されたレジスト種類情報に基づいて、半導体ウェハに塗布されたレジストの感度が判定される。例文帳に追加

Then, the sensitivity of the resist applied to the semiconductor wafer is determined based on the identified resist type information. - 特許庁

感度及びラフネス特性に優れた半導体用レジスト組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a resist composition for semiconductors with excellent sensitivity and roughness properties, and a method for resist-film and pattern formation using the same. - 特許庁

高感度のレジスト膜を形成でき、レジスト組成物を調製する際の溶媒への溶解性に優れた重合体を提供する。例文帳に追加

To provide a polymer capable of forming a high-sensitivity resist film and excellent in solvent solubility when it is formed into a resist composition. - 特許庁

感度に優れると共に、ＭＥＥＦを良好に維持することが可能な化学増幅型レジストであるフォトレジスト組成物の提供例文帳に追加

To provide a photoresist composition, which is a chemical amplification-type resist having excellent sensitivity and excellently maintaining a mask-error factor (MEEF). - 特許庁

感度が良好なレジストパターンを作製することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a resist composition capable of preparing a resist pattern excellent in sensitivity. - 特許庁

ラインエッジラフネスが改善され、感度、解像力、焦点深度、レジスト形状が優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive resist composition which ensures improved line edge roughness and is excellent in sensitivity, resolving power, focal depth and resist shape. - 特許庁

高感度を有し、かつ優れた形状のレジストパターンを与えるポジ型及びネガ型の化学増幅型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide positive and negative chemically amplified resist compositions, having high sensitivity and giving a resist pattern of superior shape. - 特許庁

塗布性や感度などのレジスト性能を損なうことなく、高い解像度を示すポジ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a chemical amplification type positive type resist composition having high resolution without impairing resist performances such as suitability to coating and sensitivity. - 特許庁

実用可能な感度を有していて、膨潤のない微細なネガ型レジストパターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a resist composition that has practical sensitivity and forms an intricate negative resist pattern with no swelling. - 特許庁

高感度で、良好な形状のパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。例文帳に追加

To provide a resist composition and a method for forming a resist pattern, by which a resist pattern in a good shape with high sensitivity can be formed. - 特許庁

耐熱性に優れたレジストパターンを形成することのできる，高感度，高解像性の放射線感応性レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a high-sensitivity and high-resolution radiation-sensitive resist composition for forming a resist pattern excellent in heat resistance. - 特許庁

実用可能な感度を有していて、膨潤のない微細なネガ型レジストパターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a resist composition having practical sensitivity and capable of forming a minute negative type resist pattern free from swelling. - 特許庁

感度、解像力、密着性、めっき特性、レジスト剥離性に優れたドライフィルムレジストに用いられる感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To obtain a photosensitive resin composition used for a dry film resist excellent in sensitivity, resolving power, adhesion, plating characteristics and resist removability. - 特許庁

高感度、高解像度であり、溶媒への溶解性も高いフォトレジスト材料を提供する。例文帳に追加

To provide a photoresist material exhibiting high sensitivity, high resolution and high solubility in a solvent. - 特許庁

高い感度であるとともに、現像欠陥の発生が少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive type photoresist composition having high sensitivity and few developing defects. - 特許庁

残膜率を維持すると同時に解像度及び感度が優れたフォトレジストを提供する。例文帳に追加

To provide a photoresist which maintains a residual layer ratio and excels in resolution and sensitivity. - 特許庁

これは、上層膜ににおいて発生した２次電子により、レジストの感度が向上したためである。例文帳に追加

Melting rate of resist is increased because sensitivity of the resist is enhanced by secondary electrons generated in the upper layer film. - 特許庁

透明性を改良し、高感度および高解像度のフォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a photoresist composition having improved transparency and high sensitivity and high resolution. - 特許庁

高感度・高解像性のレジスト材料として有用な新規櫛型ポリマーを提供する。例文帳に追加

To provide a new comb-shaped polymer useful as a resist material having high sensitivity and high resolution. - 特許庁

高い感度及び良好なラインエッジラフネスを示すフォトレジスト組成物を製造。例文帳に追加

To provide a photoresist composition exhibiting high sensitivity and good line edge roughness. - 特許庁

レジストの感度や解像度を著しく向上できる感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition that remarkably improves sensitivity and resolution of a resist. - 特許庁

レーザ描画に適したレジスト感度曲線を作成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a resist sensitivity curve suitable for laser drawing. - 特許庁

感度、解像性に優れ、シュリンクの発生が少ないポジ型ホトレジスト組成物の提供。例文帳に追加

To provide a positive type photoresist composition excellent in sensitivity and resolution and less liable to shrink. - 特許庁

エッジラフネス及び感度の優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive resist composition excellent in edge roughness and sensitivity. - 特許庁

保存安定性、更には、解像力、プロファイル、感度に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive resist composition having excellent storage stability, and moreover, resolution, profile, and sensitivity. - 特許庁

感度、解像性ともに優れた、微細パターン形成用レジストの提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a fine pattern forming resist which is superior in both the sensitivity and the resolution. - 特許庁

慣用のレジストやリソグラフィ技術を利用して、感度及び解像度を大きく改善する。例文帳に追加

To improve sensitivity and resolution while utilizing a common resist and lithography. - 特許庁

感度、解像性ともに優れた、微細パターン形成用レジストの提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a resist for fine pattern formation excellent in both sensitivity and resolution. - 特許庁

感度と解像性に優れ、更には表面荒れやアウトガスも抑制したレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a resist composition which excels in sensitivity and resolution and also suppresses surface roughness and outgassing. - 特許庁

感度、解像度、粗密依存性に優れた化学増幅型レジストに用いることができる。例文帳に追加

To provide a block copolymer usable to a chemically amplified resist excellent in sensitivity, resolution and density dependence; and a radiation sensitive resin composition using the block copolymer. - 特許庁