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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > "後保護"に関連した英語例文

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"後保護"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 88



例文

その後保護層は除去される。例文帳に追加

After that, the protection layer is eliminated. - 特許庁

審判開始後保護処分に付しない場合例文帳に追加

Cases without protective measures after commencement of hearing  - 日本法令外国語訳データベースシステム

その保護フィルム6をプリプレグ3から剥離する。例文帳に追加

Then, the protection film 6 is peeled off from the prepreg 3. - 特許庁

その保護層65及び導電端子68を形成する。例文帳に追加

Thereafter, a protection layer 65 and a conductive terminal 68 are formed. - 特許庁

例文

この保護フィルム51を基板1から取り外す。例文帳に追加

Thereafter, the protective film 51 is removed from the substrate 1. - 特許庁


例文

その保護フィルム6を接着シート12から剥離する。例文帳に追加

Then, the protection film 6 is peeled off from the adhesive sheet 12. - 特許庁

その保護膜を除去し、窒化物半導体を成長させる。例文帳に追加

After that, the protective film is removed, and the nitride semiconductor is grown. - 特許庁

その保護シート2を貫通させて絶縁層6に穴あけを行う。例文帳に追加

Then the insulating layer 6 is bored penetrating the protection sheet 2. - 特許庁

その保護膜104および接着剤層102を除去する。例文帳に追加

The protective film 104 and the adhesive layer 102 are thereafter removed. - 特許庁

例文

その保護層11を樹脂剥離液等により除去する。例文帳に追加

Thereafter, the protective layer 11 is removed by a resin release solution or the like. - 特許庁

例文

更にその保護膜6、及び配線溝2内に埋め込まれた部分以外の配線膜5を除去する。例文帳に追加

Thereafter, the protective film 6 and the wiring film 5 other than its part buried in the wiring groove 2 are removed. - 特許庁

装置内温度を所定温度まで昇温した保護層20を除去する。例文帳に追加

After heating the inside of the apparatus up to a given temperature, the protective layer 20 is removed. - 特許庁

なお、鳥取城内にいた春続の子供は父・春続の切腹保護されて吉川氏の家臣となったといわれる。例文帳に追加

It is said that Harutsugu's children who stayed inside of Tottori-jo Castle were given protection after their father's seppuku, and became vassals of the Kikkawa clan.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

その保護膜を除去し、基板上に多結晶、及び単結晶から成る窒化物半導体層を成長する。例文帳に追加

After that, the protective film is removed to grow polycrystal and monocrystal nitride semiconductor layer on the substrate. - 特許庁

その保護テープ10を剥離することで、その保護テープ10の切除縁に沿って内縁が形成された樹脂成形品20を構成する。例文帳に追加

The method also comprises the steps of releasing the tape 10 to constitute the molding 20 formed at its inner edge along the cut edge of the tape 10. - 特許庁

その保護絶縁膜上に、層間絶縁膜として燐(P)及び硼素(B)の少なくとも一方を含んだシリコン酸化膜を成膜する。例文帳に追加

Thereafter, a silicon oxide film including at least one side of phosphorus (P) and boron (B) is formed on the protective insulation film as an interlayer insulation film. - 特許庁

その保護膜3を除去してシード層2を露出させ、シード層2を電極としてめっき膜7を形成する。例文帳に追加

After that, the protective layer 3 is removed to expose the seed layer 2 and the plated film 7 is formed using the seed layer 2 as an electrode. - 特許庁

続いて、酸化膜7とアルミ膜の配線膜9を形成した保護膜10を全面に形成する。例文帳に追加

Consecutively, after an oxidation film 7 and a wiring film 9 of an aluminum film are formed, a protection film 10 is formed on a whole surface. - 特許庁

発熱素子(20)の上層にエッチングストッパー層20Aを形成し、その保護層を形成してパターンニングする。例文帳に追加

An etching stopper layer 20A is formed on the upper layer of a heat generating element (20) and then a protective layer is formed and patterned. - 特許庁

その保護層36から裏打ちフィルム32を剥離して、保護層36とパネル本体26とを圧着する第2の圧着を行う。例文帳に追加

Then, the protective layer 36 and the main body 26 of the panel are crimped for the second time by stripping the lining film 32 from the protective later 36. - 特許庁

その保護膜PLを除去し、層間絶縁膜4上の配線膜7及びバリアメタル膜6を除去する。例文帳に追加

After this, the protective film PL is removed, and the wiring film 7 and the barrier metal film 6 over an inter-layer insulation film 4 are removed. - 特許庁

この保護シート22または半導体ウエハ23を吸着部材で吸着して別の箇所に搬送する。例文帳に追加

After that, the protection sheet 22 or semiconductor wafer is sucked by a suction member and transported to another place. - 特許庁

その保護ガスを供給してウェハW上に保護膜61を形成し(図8中のS4),露光処理に移行する(図8中のS5)。例文帳に追加

Then, a protecting film 61 is formed on the wafer W by feeding a protecting gas (S4 in Fig.8), and the wafer W is sent to an exposure process (S5 in Fig.8). - 特許庁

リンク障害の保護されたデータは、顕著なサービス中断無く、迅速かつ効率的に復旧することができる。例文帳に追加

After a link fault, the protected data can be restored rapidly and efficiently, without conspicuous service interruption. - 特許庁

このとき、感熱記録層塗工時に感熱記録層を全面発色させた保護層を形成する。例文帳に追加

The method further comprises the steps of entirely color developing the recording layer at the recording layer coating time, and then forming the protective layer. - 特許庁

7 地方委員会は、第一項の決定をした保護観察の停止の理由がなかったことが明らかになったときは、決定をもって、同項の決定を取り消さなければならない。例文帳に追加

(7) If, after the Regional Board makes a decision under paragraph (1), it is found that the suspension of the probation has no grounds, it shall revoke the decision under said paragraph by its decision.  - 日本法令外国語訳データベースシステム

(4) 「特許出願が公開された後保護の形式を変更する場合,変更の通知を産業財産公報に印刷刊行されなければならないものとする。」(特許法第42条(4))例文帳に追加

4. "When the resolution deciding change in the type of protection occurs after the patent application has been published, notice of the change must be published in the "Official Bulletin of Industrial property" (Article 42.4 of the Law). - 特許庁

その保護膜を除去し、前記窒化物半導体核を成長起点として第2の窒化物半導体層を成長させ窒化物半導体基板を得る。例文帳に追加

Subsequently, the protective film is removed and a second nitride semiconductor layer is grown using the nitride semiconductor nucleus as the starting point of growth, thus obtaining a nitride semiconductor substrate. - 特許庁

その、Ga酸化膜109上にショットキー電極111を形成し、レジストパターン106や金属層110を取り除いた保護膜113を形成する。例文帳に追加

Thereafter, the Schottky electrode 111 is formed on the Ga oxide film 109 and the resist pattern 106 and a metal layer 110 are removed and a protection film 113 is then formed. - 特許庁

式(7)の化合物と、水酸基が保護された3−メチルスルホニルアミノ−4,2−ジヒドロキシフェネチルブロマイドとを反応させた保護基を脱離させることによって得られる。例文帳に追加

The compound of formula (I) is produced by reacting a compound of formula (7) with 3-methylsulfonylamino-4,2-hydroxyphenethyl bromide of which hydroxyl groups are protected and detaching protective groups. - 特許庁

その保護樹脂(6)の中央に沿って保護樹脂(6)を切断して、保護樹脂(6)により側面(3c)が夫々被覆された複数の半導体チップ(3)に分割する。例文帳に追加

After that, the protective resin 6 is cut along the center of the protective resin 6 for division into a plurality of semiconductor chips 3, where respective sides 3c are covered with the protective resin 6. - 特許庁

研摩後保護膜5が剥離され、研摩によって管状部材本体1の表面に凹面1aと凸面1bが形成され、凹面1aは鏡面状となる。例文帳に追加

The protecting films 5 are then peeled to show dent surfaces 1a and protruded surfaces 1b formed on the surface of the tubular member main body 1, and the dent surfaces 1a are specular. - 特許庁

保護層の形成保護層上に「金属酸化物粒子と有機溶剤とを含んだ液状原料」を塗布して冷却することによって一時保護層を形成する。例文帳に追加

After forming a protective layer, a temporary protective layer is formed by coating ' a liquid raw material containing metal oxide particles and an organic solvent' on the protective layer. - 特許庁

その保護対象資源1に対するアクセス要求2cを受け取ると、アクセス要求2cを出力した要求元プログラム2の識別情報4を取得する(ステップS2)。例文帳に追加

When an access request 2c to the resource 1 for protection is received, identification information 4 on a request source program 2 outputting the access request 2c is acquired (step S2). - 特許庁

その保護膜のエッチング(工程S14)と金属薄膜の形成とを(工程S16)行ない、リフトオフ法を用いて電極層(工程S18)を形成する。例文帳に追加

The method further comprises the steps of then etching the protective film (step S14), forming a metal thin film (step S16), and forming an electrode layer by using a lift-off method (step S18). - 特許庁

特に合成の最終段階では、下記式(g)で表される化合物から閉環メタセシス反応によりトリエンを構築した保護基を脱保護する。例文帳に追加

A triene is constructed from a compound represented by formula (g) by a ring-closing metathesis reaction, and the protecting groups are then removed, particularly in the final stage of the synthesis. - 特許庁

その保護絶縁膜15を形成した、不純物を活性化させ、トレンチ素子分離領域2に埋め込まれている絶縁膜の応力を開放するためのRTA処理を行う。例文帳に追加

Thereafter, after a protective insulation film 15 is formed, an impurity is activated, and an RTA treatment for releasing the stress of the insulating film embedded in the trench element isolated region 2 is performed. - 特許庁

本発明は、故障、例えば出力における短絡が検出された保護デバイスが確実に迅速に作動することが可能となる短い期間、例えば15ミリ秒にわたって電流を供給することを確実にする手段を含む。例文帳に追加

This invention includes a means of reliably supplying current for a short period of time, 15 milliseconds, for example, when a protection device can be reliably and speedily operated after a fault, short circuit in output, for example, is detected. - 特許庁

アラビノアミノオキサゾリン化合物を塩基で処理した保護化及びハロゲン化を行い、2′−ハロゲン−5,6−ジヒドロウリジン−5−エキソメチレン体を得る。例文帳に追加

The method for producing a 2'-halogen-5,6-dihydrouridine-5-exomethylene compound comprises treating an arabinoaminooxazoline compound with a base and then protecting and halogenating the product. - 特許庁

このダイオード11による紫外線照射およびヒータ71による加熱の保護テープ剥離機構が保護テープPTをウエハWから剥離するので、ウエハWに貼付けられた保護テープPTを精度よく剥離できる。例文帳に追加

After the ultraviolet irradiation by the diode 11 and the heating by the heater 71, a protective tape peeling mechanism peels the protective tape PT off the wafer W, and therefore the protective tape PT joined to the wafer W can be accurately peeled off. - 特許庁

椅子の脚アーム部に当該保管具1を固定し、当該保管具1の一方側に円形の穴6をくり抜き、保護帽の頂上部を下にして置き、収納後保護帽内側にほこり防止の蓋をかぶせる。例文帳に追加

The storage tool 1 is fixed on a leg arm part of a chair, a circular hole 6 is bored on one side of the storage tool 1, the helmet is placed with its top part down, and a dust prevention lid is placed inside the stored helmet. - 特許庁

ガラス物品である板ガラス1の表面に凹設するパターンに対応したマスキングを保護膜2で施した保護膜2が形成された状態の板ガラス1の表面を機械研磨する。例文帳に追加

After executing the masking corresponding to a pattern recessed in a surface of a plate glass 1 as a glass article with a protective film 2, the surface of the plate glass 1 with the protective film 2 being formed thereon is machine-polished. - 特許庁

また、杭10の埋設保護体2を枠体として用いつつ該保護体2に設けられた吐出口から地盤改良材を吐出して、当該杭10の外周の周囲に地盤改良材を打設することも好ましい。例文帳に追加

Desirably, after burying the pile 10, a ground improvement material is discharged from a discharge port arranged in the protector 2 while using the protector 2 as a frame body for placing the ground improvement material around the outer circumference of the pile 10. - 特許庁

積層体20〜40を形成した保護膜50を成膜する前に、電極接続部21の表面にシリコーン系オイル22等を塗布して撥水化する等により、保護膜50が成膜されないように表面改質する。例文帳に追加

After laminated bodies 20 to 40 are formed, a protective film 50 is put under surface modification so as not to be filmed, by application of silicon system oil 22 or the like to give it water-repellant finish on the surface of an electrode connecting part 21. - 特許庁

バッテリ設置構造10では、バッテリ54が凹部24内に一対の前後保護クロス38及び一対の左右保護クロス42に下側から支持された状態で収納されている。例文帳に追加

In a battery installation structure 10, a battery 54 is placed on a pair of fore/aft protection cloth 38 and a pair of right/left protection cloth 42 in a recess portion 24 in a supported state from downward. - 特許庁

そして、前記電極10の放電により光ファイバの端面を融着接続した保護スリーブを閉じて融着個所を機械的に挟み込むスリーブ圧縮機構40を具える。例文帳に追加

The fusion splicing machine is further provided with a sleeve compression mechanism 40 for closing a protective sleeve and mechanically nipping a fusion bonding part after fusion bonding the end surfaces of the optical fibers by the discharge of the electrodes 10. - 特許庁

母乳を袋口100から充填した保護紙16を剥し、帯片12,13を巻き込むようにして袋口100を閉じ、巻き込み部10mを粘着テープ15に粘着して袋口100を閉じる。例文帳に追加

After mother's milk is filled from the bag mouth 100, a protective paper 16 is peeled, the bag mouth 100 is closed so as to roll in the strips 12 and 13, and the bag mouth 100 is closed by adhering a roll-in portion 10m to an adhesive tape 15. - 特許庁

保護テープが付着されたウェーハを切断して個別チップに分離した状態で半導体パッケージ製造用骨格材に接着させた保護テープを個別的に除去する方法及び装置。例文帳に追加

The assembly method for a semiconductor package is a method wherein wafer is sliced, to which a masking tape is attached, into individual chips, which are attached to a semiconductor package manufacturing skeleton material in that state, and then, the masking tapes are stripped off individually. - 特許庁

リフトオフ層を形成した、リフトオフ層の外周部を保護層で保護し、太陽電池層を形成しした保護層を除去するステップを備えることが好ましい。例文帳に追加

The method preferably includes a step of protecting an outer circumferential portion of a lift-off layer with a protective layer after forming the lift-off layer, and of removing the protective layer after forming the solar battery layer. - 特許庁

例文

その保護膜除去層の断面が露出するように基板を切断した、基板を水、水溶液または有機溶媒によって洗浄し、前記保護膜除去層と共に保護膜を除去する。例文帳に追加

Then, the substrate is rinsed with water, an aqueous solution, or a solvent, and thereby, the protective film removal layer and the protective film are removed together. - 特許庁

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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
  
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