serifとは 意味・読み方・使い方

The method for serif synthesis is performed by initially formatting tile date into a vertex representation 100 and synthesizing a positive serif for each convex corner and a negative vertex for each concave corner 101.例文帳に追加

セリフ合成の方法は、タイルデータをまず頂点表現にフォーマットし１００、各凸状の角に対する正のセリフと各凹状の角に対する負の頂点とを合成することによって行われる１０１。 - 特許庁

The design device generates an outer serif pattern and an inner serif pattern to an optical proximity effect of a circuit pattern included in design data 21, and converts intermediate data 23 including them to drawing data 24.例文帳に追加

設計装置は、設計データ２１に含まれる回路パターンの光学的近接効果に対するアウターセリフパターンとインナーセリフパターンを生成し、それらを含む中間データ２３を描画データ２４に変換する。 - 特許庁

HIERARCHY FOR SERIF MASK DESIGN IN MICROLITHOGRAPHY, DOMAIN BALANCING METHOD AND ALGORITHM例文帳に追加

マイクロリソグラフィにおけるセリフ・マスク設計のための階層およびドメインバランス方法およびアルゴリズム - 特許庁

Further, this domain balancing method and algorithm are used in order to determine serif, hole position, shape and size in the alteration of transparency defined previously.例文帳に追加

事前定義透明度変更においてセリフおよび穴の位置、形状、サイズを決定するために、ドメインバランス方法およびアルゴリズムを使用する。 - 特許庁

The design device generates checking drawing data 26 obtained by removing the outer serif pattern and the inner serif pattern from the drawing data 24, and verifies the shape of a drawing pattern included in the checking drawing data 26 according to a verification rule.例文帳に追加

そして、設計装置は、アウターセリフパターン，インナーセリフパターンを描画データ２４から除去したチェック用描画データ２６を生成し、そのチェック用描画データ２６に含まれる描画用パターンの形状を検証ルールに従って検証する。 - 特許庁

Instead of a variable XY slit mechanism used in the conventional mask repair device, a pattern of Cr film attached to a glass substrate similar to a photomask is made to be the mask and the mask formed with an OPC pattern such as a serif on the pattern is used and, thereby, the working having about 1/2 R as the ratio with the conventional one is enabled.例文帳に追加

通常のマスクリペア装置で使用されている可変ＸＹスリット機構に代わり、フォトマスクと同様のガラス基板上に付けられたＣｒ膜のパターンをマスクとし、且つ、前記パターンにセリフなどのＯＰＣパターンを形成したマスクを使用することによって、従来比約１／２のＲを有する加工が可能となる。 - 特許庁