n型半導体の意味・使い方・読み方 | Weblio英和辞書

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n型半導体の英語

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英訳・英語 N‐type semiconductor


コンピューター用語辞典での「n型半導体」の英訳

n型半導体


「n型半導体」を含む例文一覧

該当件数 : 33



例文

the junction between a p-type semiconductor and an n-type semiconductor発音を聞く 例文帳に追加

p型半導体とn型半導体の間の接合 - 日本語WordNet

Then P-type semiconductors 26 and N-type semiconductors 27 are arranged alternately, and electrodes 23 are formed on both sides of the P-type semiconductors and N-type semiconductors.例文帳に追加

P型半導体26とN型半導体27とが交互に配置され、電極23がP型半導体およびN型半導体の両側に配置される。 - 特許庁

An n type semiconductor diamond having excellent characteristics is simply produced by the method.例文帳に追加

この方法により特性の良好なn型半導体ダイヤモンドの製造が簡便になる。 - 特許庁

In the element 10, an electromotive force is generated by setting a temperature difference between the semiconductors 11 and 12 (e.g. temperature gradient such as high temperature (TH) in the N-type semiconductor side and low temperature (TL) in the P-type semiconductor side).例文帳に追加

この熱電素子10は、N型半導体11とP型半導体12との間に、温度差(例えば、N型半導体側を高温(T_H)、P型半導体側を低温(T_L)とした温度勾配)を設定すると電極間に起電力が生じる。 - 特許庁

a junction transistor having an n-type semiconductor between a p-type semiconductor that serves as an emitter and a p-type semiconductor that serves as a collector発音を聞く 例文帳に追加

エミッタとして用いられるP型半導体と集電装置として機能するP型半導体の間のN型半導体を備える接合トランジスタ - 日本語WordNet

On the inner wall of the holes 16 inside the p-type semiconductor clad layer 12 and the n-type semiconductor clad layer 13, an oxidized region 17 is formed.例文帳に追加

そして、p型半導体クラッド層12及びn型半導体クラッド層13内の空孔16の内壁に酸化領域17を形成する。 - 特許庁

例文

Under the bottom faces of the trenches 2, n-type semiconductor regions 5 containing an impurity at a concentration higher than that in the first main electrode region are arranged.例文帳に追加

トレンチ2底面下には第1主電極領域よりも高不純物密度のn型半導体領域5が配設される。 - 特許庁

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JST科学技術用語日英対訳辞書での「n型半導体」の英訳

N型半導体


日英・英日専門用語辞書での「n型半導体」の英訳

n型半導体


N型半導体

Weblio専門用語対訳辞書での「n型半導体」の英訳

n型半導体

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Weblio英和対訳辞書での「n型半導体」の英訳

N型半導体

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「n型半導体」を含む例文一覧

該当件数 : 33



例文

An n type semiconductor diamond having more excellent characteristics can be produced by maintaining a substrate temperature at800°C.例文帳に追加

また基板温度を800℃以上に保持することでさらに特性の良好なn型半導体ダイヤモンドの製造が可能になる。 - 特許庁

The rectifying element is the p-i-n diode comprising a p-type semiconductor layer, an n-type semiconductor layer, and an intrinsic semiconductor layer between them.例文帳に追加

整流素子は、p型半導体層、n型半導体層及びこれらの間の真性半導体層から構成されるp-i-nダイオードである。 - 特許庁

The photodiode may also have an n-type semiconductor material which is formed adjacent to a second surface of the first region which is highly doped.例文帳に追加

当該フォトダイオードはまた、前記第1領域の第2面に隣接して形成される高濃度ドーピングされたn型半導体材料をも有して良い。 - 特許庁

A separation groove 17 is formed between adjacent light receiving element by partially removing respective layers 11, 12.例文帳に追加

これら複数の受光素子間には、前記p型半導体層、i型半導体層およびn型半導体層を部分的に除去した分離溝17が形成される。 - 特許庁

The light emitting diode includes an n-type semiconductor layer formed on the front surface of a rectangular sapphire substrate in such a manner that the n-type semiconductor layer has a plurality of rectangular first regions and a second region formed and crossed between the first regions to divide the first regions.例文帳に追加

上記発光ダイオードにおいて、長方形サファイア基板の表面にn型半導体層が形成され、上記n型半導体層は複数の長方形の第1領域と該第1領域を分割すべく上記第1領域間に交差形成された第2領域とを有する。 - 特許庁

A semiconductor device has a p-type semiconductor region 24 of gallium nitride containing Mg (p-type impurity), an n-type semiconductor region 20 of gallium nitride on the under side of the region 24, and an impurity diffusion suppression region 22 provided between the p-type semiconductor region 24 and the n-type semiconductor region 20.例文帳に追加

Mg(p型不純物)を含む窒化ガリウムのp型半導体領域24と、窒化ガリウムのn型半導体下領域20と、p型半導体領域24とn型半導体下領域20との間に設けられている不純物拡散抑制領域22を備えている。 - 特許庁

The solar cell is configured by laminating a p-type semiconductor layer and an n-type semiconductor layer on the surface of a glass substrate; a plurality of concave and convex parts are formed on the surface of the glass substrate to increase a surface area; and the p-type semiconductor layer and the n-type semiconductor layer are laminated on the surface of the glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板の表面にP型半導体層およびN型半導体層を積層して構成した太陽電池であって、ガラス基板の表面には複数の凹凸が形成され表面積が増大されており、このガラス基板の表面にP型半導体層およびN型半導体層が積層されている。 - 特許庁

例文

A Schottky electrode 53 is formed in an exposure range on a top surface side including side surfaces 6 of the grooves 2 to form a Schottky junction J2 with the n-type semiconductor region 30.例文帳に追加

ショットキー電極53は、溝2の側面6を含む表面側の露出範囲に形成されてn型半導体領域30にショットキー接合J2している。 - 特許庁

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