3角法の英語

1336年（延元元年/建武3年）、日尊は六角油小路に法華堂（後の上行院）を開く。例文帳に追加

1336: Nisson opens the Hokke-do Temple (later to become Jogyo-in Temple) at Rokkaku-dori Street Aburanokoji-dori Street.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

天文(元号)元年8月24日(旧暦)（1532年9月23日）、六角氏と法華宗徒により焼き討ちされた。例文帳に追加

The temple was set ablaze on October 3, 1532 by the Rokkaku clan and Hokke Sect followers.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

一対の圧延ローラ間の隙間を四角線３の一方の幅と同一な寸法に調整する。例文帳に追加

The gap between a pair of rolling rolls is adjusted to the same dimemension as the width on one side of the square wire 3. - 特許庁

ひとつの方法は、第１角度計８、第２角度計９の同時刻における加重平均からセンサピグ３の円周方向角度を求める方法である。例文帳に追加

In one method, the angle in the circumferential direction of the sensor pig 3 is obtained from the weighted mean of the first angle meter 8 and the second angle meter 9 at the same time. - 特許庁

角形基板(1)を回転させてその表面に薬液(2)を塗布する薬液塗布方法であって、薬液塗布表面(3)に沿って、角形基板(1)の中心(P)側から周縁方向(S)に気流(4)を流す事を特徴とする。例文帳に追加

In the liquid chemical applying method for applying a liquid chemical 2 on the surface while rotating a square substrate 1, air current 4 flows from the center P of the square substrate 1 to the peripheral direction S along the liquid chemical coating surface 3. - 特許庁

推測航法部７は角速度検出部３と車速検出部４の出力から現在位置を推測航法で推定する。例文帳に追加

A dead navigation part 7 estimates the present position from the outputs of the angular speed detection part 3 and the vehicle speed detection part 4 through dead navigation. - 特許庁

これにより，ドライアイの治療概念である，(1)涙液補充療法，(2)涙液排出路閉鎖，(3)眼球表面に生じた角膜・結膜上皮欠損の加療，これら3つの概念とは異なる治療法として期待できる。例文帳に追加

As a result, the treatment is expected as a treating method different from three concepts which are the concepts for treating the dry eye of (1) a lacrymal fluid-replenishing therapy, (2) the close of an excretory duct of the lacrymal fluid, and (3) the treatment of epidermal deficiency of cornea and conjunctiva formed on the surface of the eyeball. - 特許庁

基板主表面ＭＰの法線ベクトルαを、充填エピタキシャル層３で満たされるトレンチ１１の長手方向内側面の法線ベクトルβに、最小の回転角度にて重ねるための角度区間を遷移面法線角度域として定義し、トレンチの長手方向の開口エッジをなす領域を、該遷移面法線角度域にて法線ベクトルが連続的に変化する遷移面領域として考える。例文帳に追加

In the manufacturing method of the silicon epitaxial wafer, an angle for overlapping the normal vector α of a substrate main surface MP with a normal vector β on the inner side face in the longitudinal direction of the trench 11 filled with the charged epitaxial layer 3 by a minimum rotary angle is defined as a transition face normal angle region. - 特許庁