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非投影性の英語
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「非投影性」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 26件
非軸光学系による斜め投影において、ズーミングやフォーカシングを像トビの発生なしに可能とする高性能でコンパクトな投影光学系と投影型画像表示装置を提供する。例文帳に追加
To provide a high-performance compact projection optical system capable of zooming or focusing without causing image skip in oblique projection by a non-axial optical system, and a projection type image display device. - 特許庁
非軸光学系による斜め投影において、像トビの発生なしに、非軸光学系の特長を活かした非軸光学系独特のズーミングやフォーカシングを可能とする高性能でコンパクトな投影光学系と投影型画像表示装置を提供する。例文帳に追加
To provide a high-performance compact projection optical system capable of zooming or focusing peculiar to a non-axial optical system, where the characteristic of the non-axial optical system is utilized, without causing image skip in oblique projection by the non-axial optical system, and a projection type image display device. - 特許庁
使用時において投影面の平坦度を良好に維持できるとともに、非使用時において運搬性を向上できるスクリーンを提供する。例文帳に追加
To provide a screen that properly keeps the flatness of a projection surface during use and improves the conveyability during non-use. - 特許庁
使用時において投影面の平坦度を良好に維持できるとともに、非使用時において運搬性を向上できるスクリーンを提供する。例文帳に追加
To provide a screen that properly keeps flatness of a projection surface during the usage, and improves conveyability during non-use. - 特許庁
リソグラフィ投影装置であって、投影放射線の周囲雰囲気による吸収を低減するために、投影ビーム光が通る空間にその光に透明且つ非吸収性ガスの層流を創るためのガス洗浄システムを備える装置に於いて、このガスの消耗および外部雰囲気による汚染を少なくすると共に、レジスト上の水分を除去して投影ビーム光の吸収を減少し且つレジストの透過率を向上するシステムを提供すること。例文帳に追加
To reduce the consumption of gas and contamination by an outside atmosphere, to remove water on a resist for decreasing the absorption of projection beam light, and to increase a transmittance in the resist in a lithography apparatus having a gas washing system for creating the laminar flow of a transparent and non-absorbing gas to the light in space through which projection beam light passes to reduce absorption by the periphery atmosphere of projection radiations. - 特許庁
少なくとも1つの非中心性漸変反射コーティングを用いることによって、高い全透過率と組み合わせて非常に均一な視野照明が可能な投影レンズを構成することができる。例文帳に追加
By using at least one acentric, graded reflective coating, the projection lens that allows highly uniform field illumination is constituted, combined with high total transmittance. - 特許庁
レチクル及び投影光学系の少なくとも一部の光学部材を通過する露光光の光量分布が非回転対称になるような場合に、結像特性のうちの非回転対称な成分を効率的に制御する。例文帳に追加
To efficiently control a rotationally asymmetric component in imaging characteristics in the case where the light amount distribution of exposure light transmitting at least some of optical members of a reticle and a projection optical system is rotationally asymmetric. - 特許庁
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「非投影性」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 26件
この発明の露光装置1は、光源2からの所定波長の光を絶縁性基板Sに照射する投影光学系3,4と、絶縁性基板と投影光学系との間に非アルカリ系で導電性を示す流体Fを供給する流体供給機構7と、絶縁性基板上に供給された流体を回収する流体回収機構8と、を有する。例文帳に追加
The aligner 1 comprises projection optical systems 3 and 4 which irradiates a light of a specified wavelength from a light source 2 to an insulating substrate S, a fluid supply mechanism 7 which supplies a non-alkaline and conductive fluid F between the insulating substrate and the projection optical system, and a fluid-recovering mechanism 8 for recovering the fluid supplied on the insulating substrate. - 特許庁
装置サイズを大きくすることなく拡大投影を実現することができ、非投射時には装置の厚みを小さくし、可搬性、収納性を高めることができる投射光学装置を提供する。例文帳に追加
To provide a projection optical apparatus achieving enlarged projection without causing an increase in apparatus size, and improving portability and housing property by making thickness of the apparatus small when the apparatus is not used for projection. - 特許庁
これは、投影ビーム4における強度分布の非均一性がスミアアウトされ、次にウエハ又は他の基板などの、システムによって照明される基板の露光の改善された均一性を提供する。例文帳に追加
This means that nonuniformity of the intensity distribution in the projection beam 4 is smeared out and next, improved uniformity of the exposure of a wafer, other substrates or the like illuminated by the system is provided. - 特許庁
個々の部品の精度や組立の精度を非常に厳しく抑えることなく,高い光学性能を確保可能な光学系の製造方法,および残存する収差の調整が容易に可能であり,高い光学性能を達成可能な投影光学装置,ならびにマスクのパターンの像を基板に良好に投影露光し得る露光装置を提供すること。例文帳に追加
To provide an optical system manufacturing method by which high optical performance is secured without restraining the accuracy of individual parts or assembling accuracy very strictly, a projection optical device whose extant aberration is easily adjusted and which realizes high optical performance and an aligner capable of excellently projecting and exposing the image of the pattern of a mask on a substrate. - 特許庁
NA>1の開口数で液浸リソグラフィを可能にする値に達することができる非常に高い像側開口数の可能性を有する真空紫外(VUV)領域で使用するのに適する反射屈折投影対物レンズを提供する。例文帳に追加
To provide a catadioptric projection objective lens suitable for use in a vacuum ultraviolet (VUV) range having potential for very high image side numerical aperture which can be extended to values allowing immersion lithography at numerical apertures NA>1. - 特許庁
スペクトル拡散通信システムに非線形性が存在するために、送信機は、送信機と受信機の間で情報シンボルを通信するために使用されるチャンネル上に符号スパーを生成し、投影する場合がある。例文帳に追加
Since a nonlineality exists in the spread spectrum communication system, a transmitter forms and projects the code spar on a channel used in order to communicate information symbols between a transmitter and a receiver. - 特許庁
非球面反射ミラーを備えた投写型映像表示装置において、床面投影・床置き設置の場合における転倒を防止した安定性に優れた投写型映像表示装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a projection type video display device with an aspherical reflection mirror which is prevented from falling down in the case of floor surface projection or floor installation, and is excellent in stability. - 特許庁
ステップアンドスキャン方式の露光装置において、露光非点収差の発生を防ぎ、大きな焦点深度と良好な光学性能が得られる投影露光装置を提供する。例文帳に追加
To provide a projecting aligner capable of preventing the generation of exposure astigmatism and capable of obtaining large focal depth and effective optical performance in a step and scanning type aligner. - 特許庁
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