非多形的の英語

膜厚が異なる複数の領域を有する非晶質シリコン膜から、電気的特性に優れた多結晶シリコン膜を形成する。例文帳に追加

To form a polycrystalline silicon film whose electric characteristics are excellent from an amorphous silicon film having a plurality of areas whose film thickness is different. - 特許庁

非共有結合的に複合体を形成した、多価プロテオソームサブユニットワクチンの産生のための改善された方法例文帳に追加

IMPROVED METHOD FOR PRODUCING POLYVALENT PROTEOSOME SUBUNIT VACCINE OBTAINED BY FORMING NON-COVALENT COMPLEX - 特許庁

被覆部材３は、弾性伸縮性の第１層３ａと、多数の連続繊維によって形成された非弾性的に伸長可能な第２層３ｂとからなる。例文帳に追加

The member 3 has an elastically stretchable first layer 3a and a non-elastic extendible second layer 3b formed of many continuous fibers. - 特許庁

透過共振特性が貫通口の非対称的な形状により制御される高透過性の多重共振フィルターを提供する。例文帳に追加

To provide a multiple resonance filter having high transmittance in which the transmission resonance characteristic is controlled by an asymmetric shape of a through-hole. - 特許庁

非共有結合的に複合体を形成した、多価プロテオソームサブユニットワクチンの産生のための改善された方法を提供する。例文帳に追加

To provide an improved method for producing polyvalent proteosome vaccine obtained by forming non-covalent complex. - 特許庁

絶縁基板の上部に非晶質シリコン薄膜を形成し、透過領域のスリットを有する多結晶用マスク３００を利用してレーザービームを局部的に照射する順次的凝固工程で非晶質シリコン薄膜を結晶化して多結晶シリコン薄膜を形成する。例文帳に追加

The amorphous silicon film is formed on the upper surface of an insulating substrate, the amorphous silicon film is crystallized in a sequentially solidifying process that a laser beam is partially irradiated using the poly-crystallization mask 300 having a slit for a transmission area to form a poly-crystalline silicon thin film. - 特許庁

本発明の実施形態は、非直線抵抗体の間に多孔質金属板を配置することによって、非直線抵抗体の形状誤差を緩和し、製作精度の高いポリマー避雷器を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a polymer arrester having high manufacturing accuracy by disposing a porous metal plate between nonlinear resistors to relax shape errors of the nonlinear resistors. - 特許庁

化学的気相成長（ＣＶＤ）法を用いて非晶質シリコン膜を形成し、所定の雰囲気中でレーザアニール（ＥＬＡ）法により非結晶シリコン膜を結晶化することによって、多結晶シリコン膜を形成すると同時に、非常に膜厚が小さい絶縁膜を形成する。例文帳に追加

A method for forming a thin film comprises steps of forming an amorphous silicon film by using a chemical vapor phase epitaxy method (CVD), crystallizing the amorphous silicon film by a laser annealing method (ELA) in a predetermined atmosphere thereby forming a polycrystal silicon film and also forming an insulating film having a very thin film thickness. - 特許庁