過度分散化の英語

ニッケル微粉末のペースト化時の樹脂との濡れ性、及び初期分散性を向上させ、過度の分散を回避し、それによる粒子の変形、巨大化を防止する事が出来るニッケル微粉末を提供する。例文帳に追加

To obtain a nickel fine powder improved in wettability with a pasted resin and initial dispersibility while avoiding excessive dispersion, by which the deformation and the hugeness of a particle caused thereby can be prevented. - 特許庁

乾燥状態のミクロフィブリル化微小繊維状セルロースで構成されているにも拘わらず、凝集や過度の交絡が抑制され、再分散性に優れる繊維集合体繊維集合体を提供する。例文帳に追加

To provide a fiber assembly in which conglomeration and excessive interlace are suppressed even though the assembly is constituted of a microfibrillated microfiber-shaped cellulose in a dry state, and which is excellent in redispersibility. - 特許庁

顔料分散法にてプラスチック基材上に形成された着色画素パターンを電子線照射により硬化させる際、必要な部分にのみ電子線を照射することで、過度の電子線照射によるプラスチック基材及び着色画素パターンの劣化を防止することを目的とする。例文帳に追加

To prevent the deterioration of a plastic base material and colored pixel patterns as a result of excess irradiation with electron beams by irradiating only the necessary portions with the electron beams in curing the colored pixel patterns formed on the plastic base material with a pigment dispersion method by the irradiation with the electron beams. - 特許庁

基材フィルム１の少なくとも一方の面に無機酸化物蒸着層２を設け、既存のガスバリア性組成物に反応性官能基を有する水溶性または水分散性硬化剤を添加することによって、ガスバリア性積層フィルムＡ中のバリアコート層３の耐熱性、密着性を向上させ、レトルト処理後の酸素透過度の劣化を抑え、デラミ等の発生を抑える。例文帳に追加

The degradation in oxygen permeability after retort processing and the occurrence of delamination etc. are controlled by forming an inorganic oxide deposition layer 2 at least in one surface of a substrate film 1 and adding a water soluble or water dispersant curing agent having a reactive functional group to an existing gas barrier composition so that heat resistance and adhesion of a barrier coat layer 3 in a gas barrier laminated film A are enhanced. - 特許庁

機械的強度が小さい絶縁膜を有する被研磨物に対してもスクラッチが抑制され、銅膜とバリアメタル膜の両方を高い効率で研磨することができ、絶縁膜が過度に研磨されず、十分に平坦化されて精度の高い仕上げ面が得られる化学機械研磨用水系分散体および半導体装置の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a water borne dispersing element for chemical mechanical polishing that prevents scratches even on an object to be polished having an insulation film of small mechanical strength, can polish with high efficiency both a copper film and a barrier metal film, and can sufficiently flatten an insulation film without excessively polishing the film to provide a highly precise finished surface, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device. - 特許庁

化粧料組成物であって、少なくとも1種の水性相を含む、化粧学的に許容される媒体と、該組成物を、支持体に適用した際に、3500 cd・m^-2以上の強度を有し、かつ580〜650nmなる範囲内の主波長を持つ、過度の光沢点を発生し得る、該水性相中に分散された、少なくとも1種の干渉性顔料とを含むことを特徴とする。例文帳に追加

The cosmetic composition comprises cosmetically acceptable medium containing at least one kind of an aqueous phase, and at least one kind of an interference pigment dispersed in the aqueous phase, and generating, when the composition is applied to a support, overbrightness points with intensity of greater than or equal to 3,500 cd×m^-2 and with dominant wavelength of within 580-650 nm range. - 特許庁