質量加速器の英語

３６Ｃｌ含有塩化物イオンの分離方法及びこれを利用した加速器質量分析用試料の作製方法例文帳に追加

SEPARATION METHOD OF CHLORIDE ION CONTAINING 36Cl AND MANUFACTURING METHOD OF SAMPLE FOR ACCELERATOR MASS SPECTROMETRY - 特許庁

質量分析器４で分離された不純物イオンは、第１加速器５において１０ｋＶに加速され、ビーム中性化部７から放出された電子により一部が中性化される。例文帳に追加

Impurity ion separated by the mass spectrograph 4 is accelerated by a first accelerator 5 up to 10 kV, and partly neutralized by electron emitted from a beam neutralization part 7. - 特許庁

スパッタ型イオン源と質量分離機構を備え、金属イオンを被照射体に注入するようにしたイオン加速器において、質量分離機構のウェーブガイドの内壁にＴｉ＋Ｔａ等の活性な金属層を設けたことを特徴とする。例文帳に追加

For the ion accelerator equipped with a sputter type ion source and a mass separation mechanism and adapted to implant metal ions in a target to be irradiated, a layer of active metals such as Ti+Ta is provided on the inner wall of a wave guide of the mass separation mechanism. - 特許庁

スパッタ型イオン源と質量分離機構を備えたイオン加速器において、スパッタさせた金属イオン以外のガスイオンがウェーブガイドの内壁に衝突することにより発生するガス分子やスパッタ粒子の発生を抑制して下流側での不純物の混人を低滅できるようにする。例文帳に追加

To prevent generation of gas molecules and sputter particles generated by impact of other gas ions except sputtered metal ions on the inner wall of a wave guide in an ion accelerator equipped with a sputter type ion source and a mass separation mechanism to reduce the mixing of impurities on the downstream side. - 特許庁

水溶性不飽和単量体を重合して得られる内部架橋構造を有するポリアクリル酸（塩）系吸水性樹脂であって、加速器質量分析法によって測定される炭素安定同位体比（δ^１３Ｃ）が−２０‰以上であることを特徴とする、ポリアクリル酸（塩）系吸水性樹脂。例文帳に追加

The polyacrylic acid (salt) based water-absorbing resin is a polyacrylic acid (salt) based water-absorbing resin which has an internal cross linkage structure obtained by carrying out polymerization of a water-soluble unsaturated monomer, and is characterized in that a carbon stable isotope ratio (δ^13C) measured by an accelerator mass spectrometry is at least -20 per mill. - 特許庁

Ｆｅ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｒ、ＭｇおよびＺｒの含有量がそれぞれＦｅ：０．２ｐｍ以下、Ｓｉ：０．２ｐｍ以下、Ａｌ：０．０５ｐｐｍ以下、Ｃｒ：０．０５ｐｐｍ以下、Ｍｇ：０．０５ｐｐｍ以下、Ｚｒ：０．０５ｐｍ以下である純度：９９．９９９９質量％以上の高純度銅からなる真空装置用部材、特に粒子加速器用部材。例文帳に追加

The components for vacuum equipment, in particular the components for particle accelerators, consist of 99.9999mass% high purity copper containing ≤0.2 ppm Fe, ≤0.2 ppm Si, ≤0.05 ppm Al, ≤0.05 ppm Cr, ≤0.05 ppm Mg, and ≤0.05 ppm Zr. - 特許庁

イオン注入装置１０１は、イオンビームＩＢを発生、引き出すイオン源１１、マグネット（電磁石）を有する質量分析器１２、イオンビームを加速する加速器１３、静電レンズ、Ｑレンズ（４極レンズ）等のビーム収束部１４、そして、イオン源１１と質量分析器１２１の間、好ましくは静電レンズ１４１の後段にイオンビームエミッタンス測定機構１５が設けられる。例文帳に追加

The ion implanting device 101 comprises an ion source 11 which generates and extracts ion beam IB, a mass spectrometer 12 having a magnet, an ion beam convergence part such as an electrostatic lens and Q lens (four-pole lens), and an ion beam emittance measuring mechanism 15 between the ion source 11 and the mass spectrometer 121, preferably at the rear stage of the electrostatic lens 141. - 特許庁