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裏当てリングの英語
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「裏当てリング」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
スタブシャフト用一体型裏当てリングによる回転装置の溶接補修およびそれに関連した方法例文帳に追加
INTEGRAL BACKING RING FOR STUB SHAFT, WELD REPAIRS OF ROTATING EQUIPMENT AND RELATED METHOD - 特許庁
リングギアハブ1は、リングギア2とハブ3とを突き合わせて溶接接合した後、切欠き部10を完全に取り除くために裏当て材7を切削するステップS3を備えた溶接方法によって溶接接合を行う。例文帳に追加
A ring gear hub 1 is welded and joined by a welding method comprising a step S3 that, after a ring gear 2 and a hub 3 are butt-welded, grinds a backing material 7 for the purpose of completely removing a notched part 10. - 特許庁
先ず、柱3と梁2の下フランジ2aとのルート部の裏側から湾曲面が位置するように裏当て金4をあてがい、自動溶接装置1により、ルート部の凹部をシーリング溶接する。例文帳に追加
Firstly, a backing strip 4 is attached so that a curving surface positions from the back side of a root part of a column 3 and a lower flange 2a of a beam 2, and the recessed part of the root part is sealing-welded with an automatic welding equipment 1. - 特許庁
鉄骨建築物の柱材や接合ブロックの裏当て金やフランジ材を位置決めする装置に関し、自動センタリング機能を備え、両端の裏当て金の突出寸法を等しくすることも異ならせることも可能な上記装置を得る。例文帳に追加
To enable that the projecting dimensions of the backing metals of both ends are made equal or are made different each other by providing an automatic centering function in regard to a device positioning the column material of a steel frame structure, the backing metal of a joining block and a flange material. - 特許庁
離型処理した金型上に紫外線硬化型樹脂16を塗布し、その上にシランカップリング処理した光透過性の製品基板2を押し当て、製品基板2の裏面側から均一な紫外線光を照射して紫外線硬化型樹脂層16を硬化させた後、金型を剥離する。例文帳に追加
A metal mold after release processing is coated with ultraviolet-ray setting resin 16, and a light-transmissive product substrate 2 after silane coupling processing is pressed against the resin; and the reverse surface side of the product substrate 2 is irradiated with uniform ultraviolet rays to set the ultraviolet-ray setting type resin layer 16 and then the metal mold is released. - 特許庁
前転写工程で、液面に浮かべた転写フィルム20にステアリングホイールのリム部の裏面10b側を押し当て液圧転写を行い、その後、後転写工程で、リム部の正面10a側から液圧転写を行う。例文帳に追加
The method for hydraulically transferring to the steering wheel comprises a front transferring step of pressing a rear surface 10b side of a rim of the wheel against a transfer film 20 set a float on a liquid surface to hydraulically transfer the film to the wheel, and a rear transferring step of hydraulically transferring the film to the wheel from a front surface 10a side of the rim. - 特許庁
連結機構部30の下部には、テンプレート40を第1筐体10のディスプレイ裏面13に常に押し当てるように付勢するコイルスプリング31が外嵌されており、第2筐体20の左右両側面24,24には、一対の係止杆51,51が対向配置されている。例文帳に追加
A coil spring 31 to always press a template 40 to a display back face 13 of a first casing 10 is externally fit into the lower part of a connection mechanism part 30, and a pair of interlocking rods 51 and 51 are arranged to face each other on both right and left side faces 24 and 24 of a second casing 20. - 特許庁
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「裏当てリング」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
リテーナ12に形成された複数の保持溝13にローラ15が保持されたローラベアリングを加工する場合、保持溝13の内面に受け金23を当てた状態で、リテーナ12の表裏両面をパンチ24,25により同時に圧潰する。例文帳に追加
When processing a roller bearing in which rollers 15 are held at a plurality of the holding grooves 13 formed at a retainer 12, front/rear both faces of the retainer 12 are simultaneously press-crushed by punches 24, 25 in a state that metal carriers 23 are made to abut on inner faces of the holding grooves 13. - 特許庁
フラックスを裏当てに使用し、3電極または4電極の電極を使用して行う片面サブマージアーク溶接方法において、被溶接材の開先角度を25〜60°のV形状の開先とし、該開先内に高さ8mm以下のシーリングビードを全線に施して溶接する。例文帳に追加
In the one side submerged arc welding method using 3 or 4 electrodes with flux as backing, welding is performed by making a V-shaped beveling for a material to be welded with a 25 to 60° groove angle and by applying sealing beads with a height of ≤8 mm to all the wires inside the beveling. - 特許庁
一対のリング状研磨定盤11,12の各研磨作用面を、シリコンウェーハWの表裏両面に押し当て、研磨剤を供給しながら、両定盤11,12を同じ方向に回転させ、シリコンウェーハWを自転させることによりシリコンウェーハWの表裏面を同時に研磨する。例文帳に追加
The front and rear surfaces of a silicon wafer W are polished simultaneously, by pressing the polishing surfaces of a pair of ring-type polishing surface plates 11, 12 to both front and rear surfaces of the silicon wafer W, making both surface plates 11, 12 rotate in the same direction while a polishing agent is being supplied, and the making the silicon wafer W revolve by itself. - 特許庁
マグネトロンスパッタリング装置に用いられるターゲットであって、Cr及びPtを含むCo基焼結合金により構成されたターゲット板11のスパッタ面とは反対側に、該ターゲット板11よりも磁束透過率の高い材料である、CoCr合金からなる裏当て板12を接合した。例文帳に追加
In the target used for a magnetron sputtering apparatus, a backing plate 12 made of a CoCr alloy that is a material having a flux permeability higher than that of the target plate 11 is joined to a side opposite to the sputtering surface of the target plate 11 composed of Co base sintering alloy containing Cr and Pt. - 特許庁
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