荒らされた層の英語

ｎ^＋型ＳｉＣ層１の露出面の状態を荒らす工程と、荒らされたｎ^＋型ＳｉＣ層１の露出面に電極９を形成する工程とを有することを特徴とする。例文帳に追加

The method has a process for roughening up an exposed face of an n^+ type SiC layer 1 and a process for forming an electrode 9 on the roughened up exposed face of the n^+ type SiC layer 1. - 特許庁

フレキシブルプリント基板４の端子５の表面には、蒸着による導電性の微細な凹凸層又はヤスリ等により機械的に荒らされて生じた微細な凹凸５ａが形成されている。例文帳に追加

A conductive fine rugged layer formed by vapor deposition or a fine rugged shape 5a generated by being mechanically roughened by a file and the like is formed on the surface of a terminal 5 of the flexible printed board 4. - 特許庁

従来困難であった表面を荒らさない銅のエッチングが可能になり、安全で安価な薬液による酸化及びエッチングが短時間で行えバリアメタル層が安定して形成される。例文帳に追加

The etching for copper, in which the surface is not roughened and which difficult in the past can be performed, the oxidation and the etching can be performed safely by use of inexpensive liquids and the barrier metal layer can be stably formed. - 特許庁

カーボンキャップ６の成膜条件が処理対象物８の表面を荒らさない条件なので、表面荒れのない活性化層１１が得られる。例文帳に追加

Because a deposition condition of the carbon cap 6 is a condition that does not roughen the surface of the processing object 8, the activation layer 11 without surface roughness can be obtained. - 特許庁

絶縁層４のｎ^＋型埋込み層６の孔Ｈ１に露出する面にピコ秒〜フェムト秒パルスレーザ光が照射されると、絶縁層４が除去されると共に、ｎ^＋型埋込み層６の孔Ｈ１に露出する面７がピコ秒〜フェムト秒パルスレーザ光に荒らされ、不規則な凹凸２２が面７の全面に形成される。例文帳に追加

The surface exposed to the hole H1 of the n^+ embedded layer 6 of the insulating layer 4 is irradiated with picosecond to femtosecond pulse laser beam, whereby the insulating layer 4 is removed, and the surface 7 exposed to the hole H1 of the n^+ embedded layer 6 is also roughed by the pulse laser beam to form the irregular part 22 entirely over the surface 7. - 特許庁