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絶縁壁の英語
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英訳・英語 insulating wall
「絶縁壁」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1883件
絶縁壁及びその作成方法例文帳に追加
INSULATION WALL AND ITS CREATION METHOD - 特許庁
渦電流側壁は、電気絶縁用の粒子絶縁層と、磁気分離用の磁気障壁層とを含む。例文帳に追加
The eddy current sidewall includes a grain insulating layer for electrical insulation and a magnetic barrier layer for magnetic isolation. - 特許庁
絶縁スペーサが電極壁体上に提供され、基板と絶縁スペーサ間の電極壁体の部分上には絶縁スペーサが存在しない。例文帳に追加
The insulating space is provided on the electrode wall and no insulating spacer exists on a portion of the electrode wall between the substrate and the insulating spacer. - 特許庁
上段絶縁壁１７及び下段絶縁壁２０は、共に、段付き面１１の幅方向に関して同一方向に傾斜して延びて、上段絶縁壁１７と下段絶縁壁２０とは一体となった連続壁を構成している。例文帳に追加
Both upper-stage insulation walls 17 and lower-stage insulation walls 20 are tilted and extended in the same direction with respect to the widthwise direction of stepped surfaces 11, and the upper-stage insulation walls 17 and the lower-stage insulation walls 20 constitute respective integrated continuous walls. - 特許庁
そして、第１絶縁側壁３２は第１埋め込み絶縁層１８に達しており、導電側壁３４は第１埋め込み絶縁層１８を貫通して導電層１６に達しており、第２絶縁側壁３６は第１埋め込み絶縁層１８と導電層１６を貫通して第２埋め込み絶縁層１４に達している。例文帳に追加
The first insulation wall 32 reaches the first embedded insulation layer 18, the conductive wall 34 penetrates the first embedded insulation layer 18 to the conductive layer 16, and the second insulation wall 36 penetrates the first embedded insulation layer 18 and the conductive layer 16 to the second embedded insulation layer 14. - 特許庁
絶縁障壁層５はＴｉ−Ｏで形成される。例文帳に追加
The insulating barrier layer 5 is formed of Ti-O. - 特許庁
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「絶縁壁」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1883件
絶縁物５の側壁上にスペーサ６を形成する。例文帳に追加
Spacers 6 are formed on the side walls of the insulators 5. - 特許庁
超格子を用いた絶縁体障壁のないスイッチ装置例文帳に追加
SWITCHING DEVICE WITH SUPER LATTICE AND WITHOUT INSULATOR BARRIER - 特許庁
絶縁膜上と銅配線パターンの表面を覆う絶縁性拡散障壁膜４９を形成する。例文帳に追加
An insulating diffusion barrier film 49 coating the insulating film and a surface of the Cu wiring pattern is formed. - 特許庁
建築物の壁用の略平らな絶縁性構造パネルは絶縁性コアを含む。例文帳に追加
The approximately flat insulating structural panel for a wall for a building contains an insulating core. - 特許庁
ガラス組成物、それを用いたペ−スト、絶縁体、ＦＰＤ用隔壁および絶縁層例文帳に追加
GLASS COMPOSITION, PASTE USING THE SAME, INSULATOR, PARTITION WALL FOR FPD AND INSULATING LAYER - 特許庁
絶縁隔壁１１ａの頂部は、電子回路基板２上の絶縁域２１ａに隙間なく当接する。例文帳に追加
Peak portions of the insulating barrier 11a abut against insulation areas 21a on the electronic circuit board 2 without any gap. - 特許庁
基板１１上に形成された絶縁層１２が絶縁障壁層２０と同一体となっている。例文帳に追加
In the tunnel magnetoresistive effect element, the insulating layer 12 formed on a substrate 11 is formed integrally with the insulating barrier layer 20. - 特許庁
その後、絶縁膜１２及び酸化膜１３の上から全面に絶縁膜１５を堆積し、絶縁膜１５をエッチバックして、絶縁膜１５が少なくともビット線１１の側壁を覆うように絶縁膜サイドウォールを形成する。例文帳に追加
Thereafter, a dielectric film 15 is deposited all over from above the dielectric film 12 and the oxide film 13, the dielectric film 15 is etched back, and a dielectric film side wall is formed so that the dielectric film 15 covers at least a side wall of a bit line 11. - 特許庁
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insulating wall
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