終板槽の英語

処理槽３０内における洗浄処理終了後、基板搬送機構７０により基板Ｗを引き揚げ、開口部８０を経由して乾燥室２０内へ搬送する。例文帳に追加

After the substrate W is cleaned in the processing chamber 30, the substrate W is pulled up by the substrate transfer mechanism 70 and transferred into a drying chamber 20 through an opening 80. - 特許庁

これにより，フレキシブル基板８０がめっき槽１０から最終的に排出される直前に，非めっき区間２６を通過するようにして，光沢のある美麗な表面が得られるようにした。例文帳に追加

As a result, a flexible substrate 80 is passed through a non-plating zone 26 just before finally discharged from a plating vessel 10 to obtain the bright and beautiful surface. - 特許庁

上記課題は、下向きに設置された槽外駆動方式のプロペラ攪拌機と、該プロペラ攪拌機により吐出された下向流を水平流に変換する反射板を備えた無終端水路によって解決される。例文帳に追加

The endless channel comprises a propeller stirrer which is driven from the outside of a tank and installed downward, and a reflection plate which converts a downward flow discharged by the propeller stirrer into a horizontal flow. - 特許庁

薬液処理（ａ）を終えた基板１４を真空チャック１２で吸着保持したまま洗浄槽１８内に入れ、基板１４を洗浄液２０に浸した状態で基板１４を矢印１４Ａの方向に回転させることによりリンス洗浄を行なう。例文帳に追加

A substrate 14 after chemical treatment (a) is put in the cleaning tank 18 while being held by a vacuum chuck 12 and the substrate 14 is rotated in the direction of an arrow 14A, being immersed in the cleaning solution 20, by which rinsing cleaning is done. - 特許庁

そして、乾燥溶剤を供給した第１の貯留タンク１５の乾燥溶剤が寿命に達した場合には、基板Ｗの処理が終了した後、第１の貯留タンク１５とは異なる第２の貯留タンク１３だけから処理槽５に乾燥溶剤を供給して、処理槽５にて次の基板Ｗを処理させる。例文帳に追加

When the drying solvent of the first storage tank with the drying solvent supplied reaches the end of its usefulness, after the process of the substrate W finishes, the drying solvent is supplied from only the second storage tank 13 different from the first storage tank 11 to the processing bath 5 to process the successive substrate W in the processing bath 5. - 特許庁

電極洗浄手段により、電極板に付着したスケールの除去作用のある洗浄液を電解槽内に満たした状態で、所定時間その状態を維持して電極板の洗浄を行い、洗浄終了後に電極洗浄のために使用された洗浄液を排液する。例文帳に追加

With the electrolytic cell filled with a cleaning solution effective for removing the scale adhered to the electrode plate, the state is kept for a prescribed time to clean the electrode plate by an electrode cleaning means, and the solution used for cleaning the electrode plate is discharged after the cleaning. - 特許庁

処理槽２０内において純水による仕上洗浄処理が終了すると、吐出ノズル３１から水平方向かつ基板Ｗの主面と平行な方向（Ｙ軸方向）に、基板Ｗが保持される配列間隔と等間隔にて複数の一方向の純水流が形成される。例文帳に追加

When finishing washing treatment with pure water is ended in the processing tank 20, plural unidirectional pure water flows are formed at intervals equal to the array intervals at which the substrates W are held from an ejection nozzle 31 in a horizontal direction and a direction (Y-axial direction) in parallel with the main surface of the substrate W. - 特許庁

乾燥前の最終湯洗槽から出てきたプリント回路板に付着した異物を除去し、キャリアバーに付着した湯気が水滴となって落下するのを防止し、欠陥のないするプリント配線板の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide the manufacturing method of a printed-wiring board that eliminates adhering of foreign objects to a printed circuit board which is taken out from a final hot-water washing tank before drying, prevents stream from adhering to a carrier bar from becoming waterdrops for falling, and has no defects. - 特許庁