紫露造の英語

極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスク及びその製造方法並びにパターン転写方法例文帳に追加

MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN TRANSFER METHOD - 特許庁

パターン形成方法、極端紫外露光用マスク、極端紫外露光用マスクの製造方法および極端紫外露光用マスクの修正方法例文帳に追加

PATTERN FORMING METHOD, EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE MASK, METHOD OF MANUFACTURING EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE MASK, AND METHOD OF CORRECTING EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE MASK - 特許庁

極端紫外線露光用マスク、その製造法、およびそれを用いた半導体集積回路製造方法例文帳に追加

EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE MASK, MANUFACTURING METHOD THEREOF AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT EMPLOYING THE SAME - 特許庁

かかる製造方法より製造される物品（光学素子）は、弗素系から構成されているので紫外線の吸収が小さいので、紫外光、遠紫外光、真空紫外光を利用する露光装置に適用可能である。例文帳に追加

The article (optical element) produced by the method is composed of a fluorine- based resin having low absorption of ultraviolet rays is usable in an exposure apparatus utilizing ultraviolet rays, far ultraviolet rays or vacuum ultraviolet rays. - 特許庁

反射型ＥＵＶマスクの製造困難性を解消するために、ステンシル構造を有するＥＵＶ露光のための極端紫外線露光用マスク並びにそれを用いた極端紫外線の露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a mask for extreme ultraviolet rays exposure used for the EUV exposure which has stencil structure so as to solve the manufacturing difficulty of a reflection type EUV mask, and to provide an exposure method of extreme ultraviolet rays by using it. - 特許庁

紫外域用反射ミラーの製造方法並びに紫外域用反射ミラー及びそれを用いた投影露光装置例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING ULTRAVIOLET REGION REFLECTING MIRROR, ULTRAVIOLET REGION REFLECTING MIRROR, AND PROJECTION ALIGNER USING THE SAME - 特許庁

真空紫外光の測定方法、真空紫外光の測定装置、デバイス製造方法及び光露光装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING VACUUM-ULTRAVIOLET LIGHT, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE AND OPTICAL EXPOSURE APPARATUS - 特許庁

極端紫外線露光用マスクおよびそれを用いた半導体集積回路製造方法例文帳に追加

EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE MASK AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT EMPLOYING THE SAME - 特許庁