無定形態の英語

無定形形態および「形態α」と呼ばれる新奇の結晶質形態のアダパレンを特定の溶媒および温度を含む製法で得る。例文帳に追加

Adapalene in an amorphous form and in the new crystalline form referred to as "form α" are obtained by the manufacturing method using a specific solvent and a specific temperature. - 特許庁

少なくとも検出可能な量のセレコキシブが無定形形態であるセレコキシブ-結晶化阻害剤複合物を製造する方法が提供される。例文帳に追加

To provide a process for preparing a celecoxib-crystallization inhibitor composite wherein at least a detectable amount of celecoxib is in amorphous form. - 特許庁

有利な性質を持つ、生物学的に活性のある新奇のアダパレン結晶質および無定形の諸形態、それらの製造方法、それらのアダパレン精製のための使用、前記諸形態を含有する薬剤組成物および治療におけるその使用の提供。例文帳に追加

To provide a new adapalene crystalline form and amorphous forms which have advantageous properties and are biologically active, a manufacturing method thereof, use thereof for the purification of adapalene, a pharmaceutical composition comprising the forms, and use thereof in therapy. - 特許庁

ゼラチン原料を主成分とし、温度１５℃以下の冷水に溶解可能であり、当該溶解温度又はゲル化温度より低い温度でゲル化する魚由来のゼラチン、及びゲル化能力のある魚ゼラチンを無定形分子状態のまま乾燥する乾燥・粉砕工程を備える、ゼラチンの製造方法。例文帳に追加

The method for producing gelatine comprises a dry/pulverization process where fish-derived gelatine comprising gelatine raw material as a main component, meltable in cold water at ≤15°C, and gelatinized at the dissolving temperature or lower temperature than a gelatinizing temperature, or fish gelatine having gelling ability still in an amorphous molecular state. - 特許庁

原紙の両面又は片面にガラス転移点（Ｔｇ）が７２〜１２５℃のポリスチレン系樹脂の被覆層を設けた電子写真用被転写材料であり、前記被覆層におけるアイソタクチックポリスチレンが、重量比率で少なくとも５％アイソタクチックポリスチレンであり、該アイソタクチックポリスチレンは重量比率で少なくとも５０％無定形状態である。例文帳に追加

The coating layer contains at least 5 wt.% isotactic polystyrene and at least 50 wt.% of the isotactic polystyrene has an amorphous state. - 特許庁

基板２上に炭素被膜を形成する方法は、（ａ）基板２上に、主としてグラファイト構造または無定形構造を有する予め決められた厚みの炭素層を堆積させるステップと、（ｂ）前記基板２が予め選択された値の負の直流バイアス電圧に保持された状態において、上記炭素層をヘリウム雰囲気内での高周波放電によって処理するステップと、を含む。例文帳に追加

A carbon coated film forming method includes (a) a step in which a carbon layer of a predetermined thickness having mainly a graphite structure or a monolithic structure is deposited on a substrate 2, and (b) a step in which the carbon layer is treated by high frequency discharge in a helium atmosphere in the condition that the substrate 2 is kept at a negative DC bias voltage selected in advance. - 特許庁