活錘の英語

リボヌクレオチド還元酵素の８５ｋＤａのサブユニット領域のタンパク質及びポロキナーゼを含む、細胞の紡錘極体及び／又は中心体活性化用組成物。例文帳に追加

The composition for activating the spindle pole body and microtubule centrosome contains the protein of the 85 kDa subunit region of a ribonucleotide reductase and a polo kinase. - 特許庁

錘負荷の影響を受けずに餌が生きているような繊細な誘いができ、魚の種類や活性に応じてハリ掛り調整ができる釣用天秤仕掛けを提供することにある。例文帳に追加

To provide a paternoster tackle for fishing which is capable of carrying out the delicate attraction as if a bait lives without receiving the influence of a sinker load, and capable of regulating hooking according to the kind and activity of fish. - 特許庁

光触媒層３は、低温溶融ガラス層４ａに、触媒活性粒状物４が充填された構成であり、該触媒活性粒状物４は、アナターゼ（鋭錘石）を主体として構成された酸化チタン粉末の表面にＡｇ系金属層が形成されたＡｇ−酸化チタン系複合組成物とされている。例文帳に追加

The photocatalyst layer 3 is constituted by filling a low temp. fused glass layer with a catalytically active granular material comprising an Ag-titanium oxide composite compsn. wherein an Ag metal layer is formed on the surface of a titanium oxide powder based on anatase. - 特許庁

平滑コンデンサへの充電開始時の突入電流を抑制するのみではなく、負荷ユニットの抜脱後に残った電荷を素早く放電させることにより負荷ユニットの持ち運びが容易に行える活線挿抜回路及び単錘駆動システムを提供すること。例文帳に追加

To provide a hot line inserting/extracting circuit and a single weight drive system in which a load unit can be carried easily by not only suppressing an inrush current at the time of starting charging of a smoothing capacitor but also discharging residual charges after extraction of the load unit. - 特許庁

建物の最上階に設けられた、昇降機駆動装置や、籠と、釣り合い用の錘をとりつけたワイヤー、および、機械室設備を排除し、大きい強度を要求される梁、柱など構造物の問題と、昇降筒スペースの有効活用手段を提供する。例文帳に追加

To provide an effective utilizing means for an elevating cylinder space while solving a problem of a structure such as a beam and a column requiring large strength by eliminating an elevator driving device provided on the uppermost floor of a building, a wire with a cage and a balance weight mounted thereto, and machine room equipment. - 特許庁

活性層を異方性エッチングして犠牲層を露出させる異方性エッチング工程と、露出した範囲から犠牲層を等方性エッチングして梁と錘部を形成する活性層をベース層から遊離させる等方性エッチング工程を備えており、異方性エッチング工程でエッチングする個々の孤立範囲の最小径をｘ（μｍ）とし、周囲を孤立範囲で取り囲まれている領域の中心点から孤立範囲までの最短距離をＧ（μｍ）とし、犠牲層の厚さをｈ（μｍ）としたときに、下記式（１）と（２）を同時に満足する関係で孤立範囲群を分散して形成する。例文帳に追加

This manufacturing method is provided with an anisotropic etching process for performing anisotropic etching of the active layer and exposing a sacrificial layer, and an isotropic etching process for performing isotropic etching of the sacrificial layer from the exposed range and isolating the active layer for forming beams and the weight section from the base layer. - 特許庁