正弦格子の英語

矩形格子、台形格子、三角格子、のこぎり状格子、正弦格子等、様々な形状の回折格子を、簡単な構成でかつ低コストで実現することができ、しかも光利用効率が高い、光制御素子及びそれを用いた情報記録再生装置並びに情報再生装置を提供する。例文帳に追加

To actualize diffraction gratings in various shapes, such as a rectangular grating, a trapezoidal grating, a triangular grating, a saw-tooth shaped grating, and a sine grating, with simple constitution at low cost and to provide an optical control element having high light use efficiency and an information recording and reproducing device using the element and an information reproducing device using the element. - 特許庁

正弦波格子位相シフト法を用いて、複数の照射部より正弦波状の明暗分布を持つパターンを照射しながら位相シフトさせ、その位相シフトに同期させて、複数の撮影部で撮影したパターン画像をもとに照射光の位相値を計算する。例文帳に追加

Phase shifting is performed while a plurality of emitting parts emit a pattern having sine wave-shaped contrast distribution by using a sine wave grid phase shift method, and a phase value of emitted light is calculated on the basis of a pattern image photographed by a plurality of photographing parts while synchronizing with the phase shifting. - 特許庁

回折格子１６を固定したアーム１５の先端に備えられた翼体１８に、透過率が長さ方向の位置に応じて正弦波状に変化するコードホイール１８１を設ける。例文帳に追加

A code wheel 181 changing a transmittance in a sinusoidal wave state in response to a position of a length direction is provided at a wing 18 provided at an end of an arm 15 fixed with a diffraction grating 16. - 特許庁

正弦格子を測定対象物に投影して、測定対象物表面の３次元的形状を、高速かつ高精度に測定することができる、３次元形状測定装置を提供する。例文帳に追加

To provide a three-dimensional shape measuring device for measuring the three-dimensional shape of the surface of a measuring object with high precision, by projecting a sine grating on the measuring object. - 特許庁

正弦波、あるいは三角波の強度分布を有する位相がπ／２シフトした２相の格子パタンを物体に投影し、２相画像を検出する。例文帳に追加

A two-phase image is detected by projecting a two-phase grid pattern, in which a phase having an intensity distribution of a sine wave or a triangular wave is shifted by π/2, to an object. - 特許庁

ホログラフィック露光法により基板１０上に格子溝に対応した正弦波状又は正弦半波状のレジストパターン２１を作製し、その後、ＣＦ_4をエッチングガスとしてブレーズ角と同じ角度で斜めからイオンビームを照射する第１エッチング工程によりレジストが約１／３の高さになるまで基板１０とレジスト２１とを削る。例文帳に追加

A sine-wave or sine-wave half-wave type resist pattern corresponding to grating grooves is formed on a substrate 10 by a holographic exposure method, and then the substrate 10 and resist 21 are etched until the resist reaches an approximately 1/3 height through a 1st etching stage of irradiating them with an ion beam obliquely at the same angle as a blaze angle while using CF_4 as etching gas. - 特許庁