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平面応力状態の英語
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英訳・英語 plane stress condition
「平面応力状態」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 6件
弛緩状態では、バイモルフアーム178内の残留応力により、バイモルフアーム178の自由端が平面基板の面外に延びる。例文帳に追加
In a relaxed state, a free end of the bimorph arm 178 extends out of the the plane of the planar substrate by residual stress in the bimorph arm 178. - 特許庁
各シェル要素につき、板厚方向応力が0である平面応力状態を想定して面内応力の暫定値を算出し(S512)、その暫定値に基づき、板厚方向応力の板厚方向における分布を近似的に定義する関数を特定する(S515)。例文帳に追加
The temporary value of an in-plane stress is calculated by assuming a plane stress status in which a board thickness direction stress is 0 for each shell element (S512), and functions for approximately defining distribution in the board thickness direction of the board thickness direction stress are specified, based on the temporary value (S515). - 特許庁
この結果、半導体ウェーハ6の反り8Cは、半導体ウェーハ6に生じた応力14と打ち消しあい、半導体ウェーハ6は平面状態8Dとなる。例文帳に追加
As a result, a warping 8C of the semiconductor wafer 6 negates the stress 14 generating in the semiconductor wafer 6 mutually, and the semiconductor wafer 6 becomes in a planar state 8D. - 特許庁
リンク2の厚さL3を十分に確保することにより、チェーン1がプーリに巻き掛けられて駆動するときのリンク2内の応力場を、実質的に平面歪状態となるようにしている。例文帳に追加
A power transmitting device is configured so that stress field within the link 2 when driving by the chain 1 being wound around a pulley is substantially in plane strain state by means of fully assuring thickness L3 in the link 2. - 特許庁
ミラー部2の平面垂直方向に作用する応力をバネ部4に付与し、バネ部4を撓ませた状態でミラー部2のねじり動作を行うことにより、ミラー部2のねじり動作の共振周波数を変化させる。例文帳に追加
The resonance frequency of the torsional operation of a mirror part 2 is varied by twisting the mirror part 2 while bending a spring part 4 by giving stress to the spring part 4 in the direction normal to the face of the mirror 2. - 特許庁
ガラス基板10を、板状で平坦性に優れた耐熱性セッター(日本電気硝子株式会社製ネオセラムN−0)11上に1枚づづ載置し、さらに耐熱性セッター11の周囲に、4枚のダミーセッター12を配置した状態でアニールすることによって、平面方向の残留応力が4kg/cm^2 のガラス基板を12枚作製した。例文帳に追加
Glass substrates 10 are placed on heat-resistant setters 11 (Neoceram N-0(R)) having plate form with excellent flatness one for each setter and annealed by placing four dummy setters 12 around the heat-resistant setter 11 to produce 12 glass substrates having a residual stress of 4 kg/cm2 in the plane direction. - 特許庁
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平面応力状態
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