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小支磨の英語
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「小支磨」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 29件
揚送研磨装置を小型化すると共に、メンテナンス作業に支障を来たすことのない遊技球の揚送研磨装置を提供する。例文帳に追加
To provide a game ball lifting and polishing device attaining its miniaturization and causing no hindrance in maintenance work. - 特許庁
支持部材30は、摩擦係数が小さくかつ耐磨耗性のある材料で一体的に形成されている。例文帳に追加
The support member 30 is integrally formed of a material with a small friction coefficient and wear resistance. - 特許庁
可撓性、強度等に優れた基板11に支持され、ゴムシート13がその弾力性を研磨チップ14に伝えるため、研磨チップ14はそれぞれ独立に被研磨物の面に沿って研磨でき、小面積部や曲面も研磨することができる。例文帳に追加
As they are supported by the base plate 11 excellent in flexibility, strength, etc. and the rubber sheet 13 transmits its elasticity to the polishing chips 14, the polishing chips 14 respectively and independently polish a polishing article along its surface and also polish the small area part and the curved surface. - 特許庁
配管支持構造において、配管の下に摩擦係数が小さくかつ耐磨耗性のある支持部材を敷設することにより、配管を確実に防食する。例文帳に追加
To positively prevent the corrosion of piping by laying a support member with a small friction coefficient and wear resistance under the piping in piping support structure. - 特許庁
A硬度で80以上の表面硬度を有し、圧縮率が1.5%以上で、かつ初期の厚みが2mm以下の研磨層を有する研磨用成形体が、該研磨用成形体の圧縮率より小さい圧縮率を有する支持層に積層されていることを特徴とする研磨用積層体。例文帳に追加
This polishing laminate is characterized in that a polishing molding having a polishing layer with a surface hardness A of 80 or more, a compressibility of 1.5% or more, and an initial thickness of 2 mm or less, is laminated on a support layer having a compressibility smaller than the compressibility of the polishing molding. - 特許庁
大型ガラス基板研磨機において、カッタ支持部材を高速で精度良く駆動するために、振動が小さく、高精度の研磨を可能とする支持部材が必須である。例文帳に追加
To provide a high performance cutter support device usable for a polishing device of a large glass substrate; and the polishing device using the same. - 特許庁
切断装置と、並設部材4と基板110とを支持した支持部材8とを備えた並設装置を用い、切断装置によって、長尺研磨材を順次切断することにより薄板小片状の研磨材を順次形成する。例文帳に追加
A parallel arrangement provided with a cutter and a supporting member supporting a parallel arrangement member 4 and a base board 110 is used to cut a long polishing material in sequence with a cutter for forming small pieces of thin polishing materials in sequence. - 特許庁
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「小支磨」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 29件
このような有底の小凹部1031aであるので、研磨用キャリア100の断面積の減少を最小限にとどめることができ、極めて薄いワークに対しても支障無く高精度に研磨することができる。例文帳に追加
The bottomed small recessed portions 1031a decrease the sectional area of the polishing carrier 100 to a minimum and serve high- precision polishing for extremely thin works without any trouble. - 特許庁
微小部品の研磨治具を改良して、微小部品保持片を支承しているリーフスプリングのバネ定数を低くすることにより、研磨圧力の制御精度を向上させる。例文帳に追加
To improve the control accuracy for polishing pressure by improving a polishing tool for micro parts and lowering a spring constant of a leaf spring supporting a micro part holding piece. - 特許庁
秀吉はまず播磨国に進出し、小寺氏・屋塩赤松氏・龍野赤松氏を服従させ、反抗する佐用赤松氏を滅ぼし、支配を固めた。例文帳に追加
First, Hideyoshi broke into Harima, reducing the Kodera clan, the Akamatsu clan in Okishio, and the Akamatsu clan in Tatsuno to obedience, and destroyed the opposing Akamatsu clan in Sayo, to consolidate its dominance.発音を聞く - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
小面積の研磨面を有する工具本体10は、ベアリング24を介して磁石21によって工具ホルダ20に回転自在に支持される。例文帳に追加
A tool body 10 having a grinding surface of small area is rotatably supported on a tool holder 20 by a magnet 21 through a bearing 24. - 特許庁
複数個の小片を支持部材に固定し、各小片の表面の一部に所定の処理を行なった後、前記処理済み部分を支持部材から分離する工程を含む小片の一括処理方法において、小片分離後の支持部材表面を研磨して再利用する。例文帳に追加
In the batch processing method comprising the steps of fixing the plurality of chips to the supporting member, and separating the processed part from the supporting member after providing the predetermined process to the part of the surface of each chip, the surface of the supporting member with the chip separated is plished and reused. - 特許庁
さらに、挾持装置30と第2の研磨装置32の間に、書籍1の下方に選択的に臨み小口5を支持する支持板97を有する支持装置33を設ける。例文帳に追加
In addition, a supporting device 33 having a support plate 97 which is selectively opposite to a lower part of the book 1 to support the fore edge 5 is provided between the holding device 30 and the second polishing device 32. - 特許庁
研磨材スラリーの損失が小さく、耐刷性に優れ、ブラン汚れの発生が少ない平版印刷版用支持体を、高い生産安定性で製造できる平版印刷版用支持体の製造方法及び製造装置の提供。例文帳に追加
To provide a method and a device for manufacturing a support body for a lithography printing plate, decreased in incurring of an abrasive slurry loss, be excellent in printing properties, and decreased in the occurrence of brin contaminant, with high production stability. - 特許庁
フロートガラス研磨システム用下部ユニットに関し、フロートガラスが支持されたキャリアを下部ユニットから分離した後、コンベアーなどを用いてキャリアを後工程に移送することで、研磨工程で発生し得るフロートガラスのスクラッチを最小化する。例文帳に追加
To minimize a scratch of float glass which can be generated in a polishing process by transferring a carrier to a subsequent process using a conveyer or the like after separating the carrier for supporting the float glass from a lower unit in the lower unit for a float glass polishing system. - 特許庁
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