孤立させるの英語

該ループはタンク及び放熱器の間に冷却剤を孤立させるバイパスバルブを有する。例文帳に追加

The said loop has a bypath valve to let a coolant stand alone between the tank and the radiator. - 特許庁

この構成はまた、ヘッド・ディスク・アセンブリからシステムに発せられる振動を孤立させる。例文帳に追加

Moreover, this structure causes the vibration transmitted from the head-disc assembly to the system to be isolated. - 特許庁

ＬＤ制御部２に入力する画像データの孤立ドットを孤立ドット検出回路４によって検出し、パルス幅変調回路６がその孤立ドットを形成する場合のＬＤ駆動パルスの幅を、連続ドットを形成させる場合の１ドット当たりのパルス幅より大きくする。例文帳に追加

An isolation dot detecting circuit 4 detects isolation dots in image data inputted to an LD control section 2 and a pulse width modulation circuit 6 increases the width of an LD drive pulse at the time of forming an isolation dot as compared with the pulse width per dot at the time of forming continuous dots. - 特許庁

ラベリング処理部３６は、対象領域である心腔のボクセル以外の複数のボクセルを、複数の孤立ボクセル群に分離し、複数の孤立ボクセル群の各々にラベリング番号を付与する。例文帳に追加

A labeling processing part 36 separates the plurality of voxels other than the voxels of a heart chamber which is the object region into a plurality of isolated voxel groups and imparts a labeling number to each of the plurality of isolated voxel groups. - 特許庁

ＣＣＤ型固体撮像素子の孤立電極膜の面積を広くし、孤立電極膜とシャント配線とのコンタクト部の配置自由度を増大させる。例文帳に追加

To widen the area isolated electrode film of a CCD-type solid-state image pickup device thus increasing the degree of arrangement freedom for the contact part between the isolated electrode film and shunt wiring. - 特許庁

孤立パターンと密集パターンが混在するフォトマスクであっても、孤立パターンを転写したパターンの寸法精度を向上させることができるフォトマスク及びそれを備えた露光装置を提供する。例文帳に追加

To obtain a photomask capable of enhancing the dimensional precision of a pattern formed by transferring an isolated pattern even if the photomask has both the isolated pattern and a dense pattern and to obtain an exposure device with the photomask. - 特許庁

孤立ドット検出部７は、感光体に形成しようとするドットが孤立ドット又は連続ドットの先頭であることを検出し、その検出結果に応じて、所望の補正パルスを発生させる。例文帳に追加

An isolated dot-detecting part 7 detects whether a dot to be formed to a photoreceptor is an isolated dot or a head of continuous dots, and generates desired correction pulses according to the detected result. - 特許庁

孤立レジストパターンと密集レジストパターンを含むレジストマスクをトリミングし、被加工層をパターニングして得られる孤立加工パターンと密集加工パターンのパターン幅を一致させる。例文帳に追加

To make the pattern widths of an isolated process pattern and a dense process pattern, obtained by trimming a resist mask comprising the isolated resist pattern and dense resist pattern and then patterning a layer to be processed, to agree with each other. - 特許庁