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孔研磨盤の英語
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英訳・英語 internal cylindrical grinder
「孔研磨盤」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 29件
研磨用定盤1と被研磨体間に母粒子とその表面に保持される微細砥粒とからなる研磨剤を供給して研磨するのに用いられる研磨用工具プレートおいて、この研磨用定盤1の加工面2に多数の孔3が設けられた研磨用工具プレートである。例文帳に追加
Many holes 3 are formed on the working surface 2 of a polishing table 1 in the polishing tool plate for supplying the abrasive consisting the mother grains and the fine grinding particles held on the surfaces of the mother grains to a gap between the table 1 and a body to be polished to polish the body. - 特許庁
本発明は、研磨パッドと研磨定盤とに終点検出用の貫通孔が設けられたウェーハ研磨装置において、ウェーハの研磨終点検出精度を向上させることができるウェーハ研磨装置を提供する。例文帳に追加
To provide a wafer polishing apparatus wherein the polishing end point detecting precision of a wafer can be improved in the wafer polishing apparatus provided with through holes for detecting the end point at a polishing pad and a polishing plate. - 特許庁
研磨部材3には、研磨に起因するこの研磨部材の磨耗に応じた研磨部材3の厚さを識別可能とする検出孔14が、研磨部材3と研磨定盤2との設置面から他方の面に向かって所定の深さまで形成されている。例文帳に追加
The polishing member 3 forms a detecting hole 14 for determining the thickness of the polishing member 3 that corresponds to the abrasion of the polishing member caused by polishing up to the prescribed depth toward the other surface from the installing surface of the polishing member 3 and the polishing surface plate 2. - 特許庁
円盤状基板の中心の開孔を極めて精度よく研磨することのできる内周研磨方法を提供する。例文帳に追加
To provide an inner periphery polishing method capable of polishing a central opening hole of a disk-like substrate at extremely good precision. - 特許庁
研磨定盤2には、研磨部材3の磨耗により検出孔14が貫通することを検出可能なセンサー16が設けられている。例文帳に追加
On the polishing surface plate 2, a sensor 16 is arranged capable of detecting the penetration of the detecting hole 14 by the abrasion of the polishing member 3. - 特許庁
円盤状基板の中心の開孔を極めて精度よく研磨することのできる内周研磨方法を提供する。例文帳に追加
To provide an inner periphery polishing method for polishing a hole drilled at the center of a disc-like substrate very precisely. - 特許庁
被研磨物を保持するワークキャリアと定盤との視認性を向上することにより、被研磨物をワークキャリアに設けられた保持孔にセットする作業性を向上できる基板の研磨装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a polishing device for a substrate that can improve workability for setting a polishing object in a holding hole formed on a workpiece carrier by improving visibility between the workpiece carrier for holding the polishing object and a platen. - 特許庁
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「孔研磨盤」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 29件
本発明における磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、複数のナップ孔が形成された研磨パッドから界面活性剤を除去する活性剤除去工程(S110)と、界面活性剤が除去された研磨パッドを用いて円盤状のガラス基板を研磨する研磨工程(S120)と、を含む。例文帳に追加
The manufacturing method of the glass substrate for the magnetic disk comprises: an activator removing step (S110) removing the surface active agent from a polishing pad having a plurality of nap holes formed therein; and a polishing step (S120) polishing the glass substrate in a disk shape with the polishing pad from which the surface active agent is removed. - 特許庁
研磨材回収タンク26内の研磨材34を、回転する研磨材供給盤20の円周上の研磨材供給孔24に装填ないし捕集し、前記研磨材供給孔24の回転軌跡に臨む送受口22から前記研磨材34を射出圧縮空気31により吹き上げて送受管29を介して研磨材供給管30に運ぶと共に、加圧圧縮空気32により圧送して噴射ノズル11へ供給し、前記研磨材34が被加工物に噴射される。例文帳に追加
The abrasive 34 is spouted through a feed and receiving port 22, fronting on the rotation locus of the abrasive feed hole 24, by injection compression air 31 and carried to an abrasive feed pipe 30 through a feed and receiving pipe 29 and forcibly fed to an injection nozzle 11 by pressure compression air 32 and the abrasives 34 are injected against a work. - 特許庁
下定盤の研磨布上にキャリアをセットした後、ワークを前記キャリアの保持孔内に挿入する前に、前記キャリア及び/又は下定盤の研磨布から液体を飛散させる。例文帳に追加
After the carrier has been set on the polishing cloth of the lower polishing plate, the liquid is scattered from the carrier and/or the polishing cloth on the lower polishing plate before the workpiece is inserted into the holding hole of the carrier. - 特許庁
円盤状基板の中心の開孔に対して研磨液の供給を良好に行うとともに、研磨装置の寿命を長引かせる円盤状基板の製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a manufacturing method of a disc type substrate capable of favorably supplying abrasive liquid to an open hole in the center of the disc type substrate and increasing a span of life of a polishing device. - 特許庁
研磨皿1および定盤17には空孔3、4が穿設され、空孔3は管19と、空孔4は管18とそれぞれ連通する。例文帳に追加
Holes 3, 4 are formed on the abrasive plate 1 and the surface plate, the holes 3 communicate with a pipe 19, and the holes 4 communicate with a pipe 18. - 特許庁
簡便な方法によって円盤状基板の中心の開孔を精度よく研磨することのできる円盤状基板の製造方法を提供する。例文帳に追加
To precisely polish an open hole in the center of a disc like substrate by a simple method. - 特許庁
研磨を行うパッド部2の裏面側に粘着シート3を介して剥離紙6が貼着され、使用時には前記剥離紙6を剥がして研磨機定盤7に固定する研磨パッド1であって、前記研磨機定盤7に固定される裏面側から前記パッド部の表面側に連通孔8が形成された。例文帳に追加
In a polishing pad at which released paper 6 is affixed onto the back surface of a pad section 2 for polishing through an adhesive sheet 3 and which is fixed onto a surface plate 7 of a polishing machine after the released paper is removed before its use, a communicating hole 8 is formed in the surface of the pad section from the back surface fixed onto the surface plate 7. - 特許庁
そして、遊星歯車に形成された球体収容孔41に球体を収容し、遊星歯車が自転しながら中心歯車の周りを公転すると共に、この球体が上部定盤の研磨布18aと下部定盤の研磨布11aとによって挟持されて表面が満遍なく研磨され、両研磨布の間に形成されるクリアランスに対応する直径を有する高精度の球体が形成される。例文帳に追加
A sphere is stored in a sphere storage hole 41 formed on the gear 40 which revolves around the gear 22 while rotating, and also is nipped by the abrasive cloths 18a and 11a of the plates 18 and 11 respectively to be ground thoroughly, thereby forming a highly accurate sphere having a diameter in accordance with a clearance formed between both the abrasive cloths. - 特許庁
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internal cylindrical grinder
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