堆積相の英語

プラズマ化学気相堆積装置及びプラズマ化学気相堆積方法例文帳に追加

PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM AND PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD - 特許庁

金属化合物薄膜は物理堆積法および化学堆積法のいずれでも、また気相堆積法および液相堆積法のいずれでもよい。例文帳に追加

The metal compound thin-film may be acquired by either physical deposition method or chemical deposition method, otherwise by vapor-phase deposition method or liquid-phase deposition method. - 特許庁

化学気相成長法による膜堆積装置および膜堆積方法例文帳に追加

EQUIPMENT AND METHOD OF DEPOSITING FILM THROUGH CHEMICAL VAPOR DEPOSITION - 特許庁

加熱触媒体を用いた化学気相堆積方法及び化学気相堆積装置例文帳に追加

METHOD FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION WITH THE USE OF HEATING CATALYST BODY, AND APPARATUS FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION - 特許庁

光化学気相堆積法用プローブ及びその製造方法、並びに光化学気相堆積装置例文帳に追加

PROBE FOR PHOTOCHEMICAL GAS PHASE DEPOSIT METHOD, MANUFACTURING METHOD FOR PROBE, AND PHOTOCHEMICAL GAS PHASE DEPOSITING DEVICE - 特許庁

誘電ギャップ充填用のマルチステップ堆積・エッチング・堆積（ＤＥＰ−ＥＴＣＨ−ＤＥＰ）高密度プラズマ化学気相堆積プロセス例文帳に追加

MULTI-STEP DEP-ETCH-DEP (DEPOSITION-ETCHING-DEPOSITION) HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS FOR FILLING DIELECTRIC GAP - 特許庁

搬送工程の後、異なる半導体材料の追加の層を、第二チャンバ２６において、気相堆積によって第一堆積層の上に堆積させる。例文帳に追加

After the transferring step, an additional layer of a different semiconductor material is deposited on the first deposited layer in the second deposition chamber 26 by using vapor deposition. - 特許庁

上記アモルファスＡｌ_２Ｏ_３膜は、化学気相堆積法、原子層堆積法又はスパッタ法を用いて、堆積される。例文帳に追加

The amorphous Al_2O_3 film can be deposited using a chemical vapor deposition, atomic layer deposition or sputtering process. - 特許庁