基板内注入均一性の英語

複数枚の基板に一括してイオン注入を行うことができ、しかも各基板の面内における注入量分布の均一性を良くすることができるイオン注入装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ion implanter capable of implanting ions to a plurality of substrates at one time and improving uniformity of implantation volume distribution in a surface of each substrate. - 特許庁

イオン注入剥離法によって剥離した剥離面近傍のイオン注入層に存在するイオン注入欠陥層を効率的に除去し、かつ基板間・基板面内の膜厚均一性を取ることができ、またハンドルウェーハに低融点材料を用いたＳＯＩ基板にも適用することのできるＳＯＩ基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing an SOI substrate which efficiently removes an ion implantation defect layer present in an ion-implantation layer near a flaked face flaked by an ion-implantation flaking method, obtains film thickness uniformity between substrates and in the surface of the substrate, and is also applied to the SOI substrate which uses low melting point material for a handle wafer. - 特許庁

有機材料を、大面積の基板に連続的かつ再現性よく、均一に積層できる素子用薄膜層の蒸着方法、蒸着装置、および電荷注入層の膜面内における電子輸送性有機物と電子注入性材料との組成比の均一化を実現できる有機ＥＬ素子を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for vapor-depositing a thin film layer for a element by which an organic material can be continuously and uniformly laminated with excellent reproducibility on a substrate large in area, and to provide an organic EL element which is capable of unifying the composition ratio of an electron-carrying organic matter to an electron injection material in a film of an electric charge injection layer. - 特許庁