制限視野絞りの英語

前記視野絞りは、前記非撥液性領域２８に配置された前記マークには照射され、前記撥液性領域には照射されないように、前記基板基準プレートに照射される計測光を制限する。例文帳に追加

The field stop restricts the measuring light irradiated to the substrate reference plate so that it is irradiated to the mark arranged in the non liquid-repellent property region 28, and is not irradiated to the liquid-repellent property region. - 特許庁

視野絞りの開口形状による制限を受けることなく、様々な形状を測定範囲としてその測定範囲の分光スペクトルを測定することを可能とする。例文帳に追加

To measure optical spectrum within a measurement range while defining various shapes as the measurement range without being limited by an aperture shape of a field diaphragm. - 特許庁

外周面がフレアカット処理されずに滑面のままである屈折率分布型ロッドレンズ１２と、その入射側レンズ面に装着した視野制限絞り部材１４とからなる結像光学素子である。例文帳に追加

The device consists of a graded index rod lens 12 having a peripheral face as remaining smooth without subjected to flare-cut processing, and of a diaphragm member 14 to limit the view field attached to the lens face where light enters. - 特許庁

試料７のガス反応処理を行う場合、まずオペレータは、微小領域分析を行う場合と同様、開口径調整機構２８を調整して、視野制限絞り２７の開口径をたとえば250μｍ〜300μｍ程度に小さくする。例文帳に追加

When gas reaction treatment for a sample 7 is conducted, an operator, at first, makes small the aperture of a diaphragm 27 for limiting the field of vision, for instance as small as 250-300 μm, by adjusting an aperture- adjusting mechanism 28 just as doing it in micro-region analyzing. - 特許庁

マスクブランクの欠陥を検査する装置において、第一の虹彩絞りが光源に位置されて光源から放出される光の照射角を制限し、散乱制限ユニットがマスクブランクから反射したのちの散乱光の散乱角を制限するために暗視野光学ユニットの出射口に位置される。例文帳に追加

In the device for inspecting the defect in the mask blank, a first iris diaphragm is positioned at a light source to limit irradiation angels of light emitting from the light source and a scattering control unit is positioned at the outgoing port of a dark field optical unit so as to control scattering angles of scattered light after being reflected from the mask blank. - 特許庁

これと並行して、マスク３上の一部分から発生する１種もしくは複数の蛍光Ｘ線Ｂ２、またはマスク３により反射された１次Ｘ線Ｂ１の散乱線を視野制限用の絞り孔１４Ａを通して検出する。例文帳に追加

In parallel with this operation, scattered rays by one kind or a plurality of kinds of fluorescent X-rays B2 which are generated from a part on the mask 3 or by primary X-rays B1 which are reflected by the mask 3 are detected through a diaphragm hole 14A for visual-field restriction. - 特許庁

液浸露光装置は、原版のパターンを投影光学系および液体を介して基板に投影して該基板を露光するように構成され、基板を保持する基板ステージに配置された基板基準プレートと、前記基板基準プレートに照射される計測光を制限する視野絞りを駆動する駆動部とを備える。例文帳に追加

The immersion lithography apparatus is constituted so that the pattern of an original plate is projected on a substrate through a projection optical system and a liquid so as to expose the substrate, and includes a substrate reference plate arranged on a substrate stage to hold the substrate, and a drive portion to drive a field stop which restricts a measuring light irradiated to the substrate reference plate. - 特許庁

該回折格子プレート６６のエリアマーカーＭＥのパターンを、視野絞り６８のスリット６８ａで制限し、中心部の十字形状の中央ガイドＭｂのみ通過させたマーカー光Ｍを当てるようにすることで、刻印のダイレクトマーキングＤの読み取り用等の画角の狭い光学系を備える光学情報読取装置に転用できる。例文帳に追加

The area marker ME pattern of the diffraction grating plate 66 is restricted by a slit 68a of a visual field diaphragm 68 and the marker light M having passed through only a cross central guide Mb in the center part is irradiated, and thus it can be also used for the optical information reader equipped with optical systems with narrower angles of view, such as for reading a direct marking D of a stamp. - 特許庁