レジスト照射の英語

フォトレジスト層１２にレーザ光を照射し、フォトレジスト層のレーザ光が照射された部分に穴部１３を形成する。例文帳に追加

A laser light is applied to the photoresist layer 12 and a hole 13 is formed on a portion of the photoresist layer to which the laser light is applied. - 特許庁

レジスト塗布装置２０に，レーザ光を照射するレーザ照射部１７３を設ける。例文帳に追加

A resist coating apparatus 20 has a laser irradiation part 173 which irradiates laser beams. - 特許庁

続いて下層レジスト１１全体に紫外線４を照射させる。例文帳に追加

Subsequently, the entire lower layer resist 11 is irradiated with UV 4. - 特許庁

次に、レジスト層９３に部分的に光を照射する（露光工程）。例文帳に追加

Then, the resist layer 93 is partially irradiated with light (an exposure process). - 特許庁

記録光は、フォトレジストが塗布されたガラス原盤に照射される。例文帳に追加

A glass master disk on which a photoresist is applied is irradiated with recording light. - 特許庁

次に、レジスト層９３に部分的に光を照射する（露光工程）。例文帳に追加

Subsequently the resist layer 93 is partially irradiated with light (an exposure process). - 特許庁

（２）レジスト直描方式によるレジストパターン形成において、感光性レジストインクが、感光性レジストインク吐出口より離れた直後に紫外線または可視光線に照射され、レジストパターンが形成される。例文帳に追加

(2) In the formation of the resist pattern by using the direct resist writing method, the resist pattern is formed by irradiating photosensitive resist ink with ultraviolet rays or visible light rays immediately after the ink is separated from a photosensitive resist ink discharge opening. - 特許庁

基板上にレジストよりなる層（レジスト層）を形成し、レジスト層上に制電性樹脂と光酸発生剤とを含んでなるレジスト保護膜を形成し、レジスト保護膜に対し選択的に活性エネルギー線を照射し、レジストを現像し、レジストパターンを形成する。例文帳に追加

A layer made of a resist (resist layer) is formed on a substrate, a resist-protecting film comprising an antistatic resin and a photo-acid generating agent is formed on the resist layer, active-energy rays are made to selectively irradiate over the resist-protecting film, and the resist is developed to form a resist pattern. - 特許庁