レジスト厚さの英語

レジスト溶液の塗布時、予め登録したレジスト溶液の目標膜厚と重量差を変換するデータテーブルを用いて、レジスト塗布前の基板重量と、レジスト塗布後の基板重量の重量差から膜厚に換算し、該換算値をレジスト膜厚値として出力する測定方法。例文帳に追加

The measuring method enables the output of a conversion value as a resist film thickness value by converting a weight difference between a substrate weight before resist application and a substrate weight after resist application into the film thickness by using a data table for converting a target film thickness and the weight difference of a resist solution registered in advance when the resist solution is applied. - 特許庁

また、レジスト膜は、転写パターンが形成される領域において、膜厚の最も厚い位置におけるレジスト膜の膜厚と、膜厚の最も薄い位置におけるレジスト膜の膜厚との差異が５０オングストローム以下である。例文帳に追加

In a region of the resist film where a transfer pattern is to be formed, the difference between the film thickness of the resist film at a position with the maximum thickness and at a position with the minimum thickness is not more than 50 Å. - 特許庁

レジスト塗布処理時には，回転されたウェハＷの中心部にレジスト液供給ノズルによりレジスト液が吐出され，所定の膜厚のレジスト液の液膜が形成される。例文帳に追加

In resist coating treatment, a resist liquid is delivered from a resist liquid supply nozzle to the center of a spinning wafer W, and a film of the resist liquid having a given thickness is formed. - 特許庁

フォトレジスト等のデバイスにレジストパターンを形成する際、レジスト層の厚さを均一化して露光を行なうことで、良好なレジストパターンを得る。例文帳に追加

To obtain a favorable resist pattern by performing exposure while the thickness of a resist layer is made uniform in forming a resist pattern in a device such as a photoresist. - 特許庁

レジスト微粒子を小さくして膜厚を均一にした電着レジスト膜を高精度に形成でき、量産性に優れたスプレーレジスト法によるレジスト膜の塗布装置を提供する。例文帳に追加

To provide a resist coating device for a resist film that employs a spray resist method in which an electrodeposition resist film made uniform in film thickness by making resist particulates small can be formed with high precision and which is superior in mass-productivity. - 特許庁

レジストの種類が決められた条件下において、レジスト膜中の定在波の発生を極小化するためのレジストの膜厚、レジスト下地膜の膜厚を高い精度で最適化し得るレジストパターンの形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming a resist pattern, whereby the thickness of a resist film and the thickness of a resist base film can be optimized with high accuracy for minimizing a standing wave in the resist film under conditions of a kind of resist which is determined. - 特許庁

レジスト膜厚に対する寸法変動が小さいレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern which ensures small dimensional variation irrespectively of resist film thickness, and a resist pattern forming method. - 特許庁

処理時間がレジストの表面硬化層の厚さに依存せず、残渣なくレジストを除去することができるレジスト除去方法およびレジスト除去装置を提供する例文帳に追加

To provide a resist removal method and a resist remover which has process time, independently of the thickness of a surface hardened layer of resist and removes the resist, without residues. - 特許庁