マイクロエレクトロニックデバイスの英語

本発明はまた、このような多金属マイクロエレクトロニックデバイスを、本発明の組成物を用いて洗浄するための方法に関する。例文帳に追加

The present invention also relates to a method for cleaning the multi-metal microelectronic device using the composition of present invention. - 特許庁

本発明はまた、このような多金属マイクロエレクトロニックデバイスを、本発明の組成物を用いて洗浄するための方法に関する。例文帳に追加

The multi-metal microelectronic device is cleaned by using the composition. - 特許庁

本発明は、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄するために適切なマイクロエレクトロニックフォトレジスト洗浄組成物、および引き続いて水を使用するすすぎ工程が存在する場合に、実質的または有意なあらゆる電気化学的腐食を起こさずに、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄することに関する。例文帳に追加

The present invention relates to cleaning of a multi-metal microelectronic device without substantial or significant electro-chemical corrosion, in the case a rinsing step is present which uses an appropriate microelectronic photoresist cleaning composition and water thereafter for cleaning the multi-metal microelectronic device. - 特許庁

本発明は、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄するために適切なマイクロエレクトロニックフォトレジスト洗浄組成物、および引き続いて水を使用するすすぎ工程が存在する場合に、実質的または有意なあらゆる電気化学的腐食を起こさずに、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄することに関する。例文帳に追加

The microelectronic photoresist cleaning composition is suitable for cleaning the multi-metal microelectronic device, and the multi-metal microelectronic device is cleaned, without causing any substantial or significant electro-chemical corrosion to occur, when there is a subsequent rinsing step employing water. - 特許庁

金属を電気科学的腐食から保護しながら、良好な洗浄結果を生じる、多金属マイクロエレクトロニックデバイスのための良好な洗浄組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide an excellent cleaning composition for a multi-metal microelectronic device which provides superior cleaning results, while protecting metals from electro-chemical corrosion. - 特許庁

金属を電気科学的腐食から保護しながら、良好な洗浄結果を生じる、多金属マイクロエレクトロニックデバイスのための良好な洗浄組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a good cleaning composition for a multi-metal microelectronic device, capable of providing a good cleaning result while protecting the metal from electro-chemical corrosion. - 特許庁