ホスホ硫酸の英語

有機過酸含有水溶液に過硫酸塩、特に好ましくは過硫酸水素カリウムを溶解配合してなる除菌洗浄剤組成物であり、特定のｐＨ範囲、安定剤として非アミノ系ホスホン酸またはその塩、特に好ましくは１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸またはその塩を含有せしめることにより、製品としての経時保存安定性を向上せしめた除菌洗浄剤組成物例文帳に追加

The sterilizing cleanser composition having a specific pH range is obtained by compounding an organic peracid-containing aqueous solution with a persulfate, especially preferably potassium hydrogen persulfate, through dissolving it in the aqueous solution and also including as the stabilizer a non-amino-based phosphonic acid or its salt, especially preferably 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid or its salt, to improve storage stability with time as a product. - 特許庁

純水，過硫酸アンモニウム，硝酸カルシウム，ホスホン酸及び希硫酸等を所定の重量比で配合してなる電解凝集結合剤に高重合ポリアクリル酸ナトリウム，珪藻土，フライアッシュを混合してなる処理剤を混合して混練する。例文帳に追加

A treatment agent prepared by mixing highly polymerized sodium polyacrylate, diatomaceous earth and fly ash is mixed and kneaded with an electrolytic flocculating binder prepared by compounding pure water, ammonium persulfate, calcium nitrate, phsphonic acid and dilute sulfuric acid. - 特許庁

アルミニウムを含む硫酸酸性溶液において、２−エチルヘキシルホスホン酸モノ−２−エチルヘキシルを含む有機溶媒を用いて、アルミニウムを抽出分離する。例文帳に追加

Aluminum is extracted and separated using an organic solvent including 2-ethyl hexyl phosphonic acid mono-2-ethyl hexyl in an aluminum-containing sulfuric acid solution. - 特許庁

また、鋼板を、Ｖのオキシ硫酸塩の一種以上と、リンの酸素酸又はリンの酸素酸塩と、Ｚｎ化合物と、ホスホン酸塩とを含有し、且つＣｒを含有しない水溶液中で浸漬処理あるいは電解処理することを特徴とする。例文帳に追加

Alternatively, the steel sheet is subjected to a dipping treatment or an electrolysis treatment in an aqueous solution further containing a phosphonate in addition to the above. - 特許庁

金属除去剤３において、アニオン性官能基は、スルホン酸基、カルボキシル基、硫酸基、チオール基、リン酸基、ホスホン酸基、イミノジ酢酸基、及びアミノリン酸基から選ばれる１種以上であることが好ましい。例文帳に追加

In the metal removing agent 3, the anionic functional group is preferably one kind selected out of a sulfonic acid group, a calboxyl group, a sulphonyl, a thiol group, a phosphate group, a phosphonic acid group, an iminodiacetic acid group and an amino phosphate group. - 特許庁

特定のスルホン酸塩、特定の硫酸エステル塩、特定のスルホコハク酸塩又はエステル塩、及び有機ホスホン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも１種と水とを含有してなる銅配線半導体基板用ポリマー洗浄剤組成物。例文帳に追加

The polymer cleaning agent composition for the copper wiring semiconductor substrate comprises at least one kind selected from the group consisting of a specific sulfonate, a specified sulfuric ester salt, a specific sulfosuccinate or ester salt and an organic sulfonate and water. - 特許庁

材料は親水性表面を有する平版ベース、親油性画像形成層及び架橋された親水性上層を示した順序で含み、親水性上層はスルホン酸、硫酸、リン酸又はホスホン酸から誘導される有機化合物を含む。例文帳に追加

The material comprises a lithographic base with a hydrophilic surface, a lipophilic image forming layer and a crosslinked hydrophilic top layer in this indicated order and an organic compound derived from sulfonic acid, sulfuric acid, phosphoric acid or phosphonic acid is incorporated in the hydrophilic top layer. - 特許庁

銅又はその合金からなる表面を粗化するための表面粗化剤であって、硫酸、過酸化水素、５−アミノテトラゾール、５−アミノテトラゾール以外のテトラゾール化合物、及びホスホン酸系キレート剤を含有することを特徴とする表面粗化剤。例文帳に追加

The surface roughening agent is used for roughening the surface of Cu or Cu alloy, and includes H_2SO_4, H_2O_2, 5-aminotetrazol, a tetrazol compound excluding 5-aminotetrazol and a phosphonic-acid based chelate agent. - 特許庁