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ヘリコン波プラズマの英語
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「ヘリコン波プラズマ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
ヘリコン波プラズマ装置及びヘリコン波プラズマ処理方法例文帳に追加
HELICON WAVE PLASMA DEVICE AND HELICON WAVE PLASMA PROCESSING METHOD - 特許庁
原料ガスはプラズマ化して供給することが望ましく、プラズマの励起法としては電子ビーム励起プラズマ法、高周波平行平板プラズマ法、ラダー状の放電電極を用いた高周波プラズマ法、電子サイクロトロン共鳴プラズマ法、誘導結合型プラズマ法あるいはヘリコン波プラズマ法等の高密度プラズマを用いることを特徴とする。例文帳に追加
The material gas is preferably supplied in the form of high density plasma excited by electron beam excited plasma method, high frequency parallel plate plasma method, high frequency plasma method employing rudder-like discharge electrodes, electron cyclotron resonance plasma method, induction coupling plasma method, or helicon wave plasma method. - 特許庁
ヘリコン波励起プラズマによりターゲットをスパッタし、プラズマの到達しない基板上へエピタキシャル成長を行う。例文帳に追加
A target is sputtered with helicon wave excited plasma, and an epitaxial growth is carried out on a substrate that plasma does not reach. - 特許庁
プラズマを用いて物質を被処理物の表面近傍に導入するプラズマドーピング方法において、プラズマ源としてヘリコン波プラズマを用いる。例文帳に追加
A helicon-wave plasma is used as a plasma source in a plasma doping method, where a material is introduced in the vicinity of the surface of a material to be treated using a plasma. - 特許庁
処理容器14内に配置されている被処理物Wにヘリコン波を導入することによりプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、ヘリコン波が発生する真空容器11a、11bの内部を磁場の方向20と平行な壁面により複数に分割するプラズマ処理装置。例文帳に追加
In this plasma treatment device, performing plasma treatment by introducing helicon waves into a workpiece W arranged inside a treatment vessel 14, the inside of each of vacuum vessels 11a and 11b for generating the helicon wave is divided into a plurality of sections by means of a wall face parallel to a magnetic field direction 20. - 特許庁
アンテナ側磁力線9で示す外部磁場に沿って伝播するヘリコン波やスロー波等の波動をアンテナ3で励起するプラズマ発生装置において、プラズマ6を大面積化し、プラズマ境界端面を明確化し、基板等の処理材料11の位置選択を可能にすること。例文帳に追加
To generate plasma in a large area, to clarify the plasma boundary end face and to allow the position selection of a process material such as a substrate in a plasma generator exciting the wave motion of the helicon wave or slow wave propagating along the external magnetic field shown by the magnetic lines of force on the antenna side with an antenna. - 特許庁
磁場発生コイル46で磁場を発生させるとともに、アンテナ34にヘリコン波励起電場を印加すると、ソースチャンバー24の内部にヘリコン波プラズマが発生する。例文帳に追加
When a magnetic field is generated by a magnetic field generating coil 46, while a helicon wave excitation electrical field is applied to the antenna 34, a helicon wave plasma is generated in the source chamber 24. - 特許庁
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「ヘリコン波プラズマ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
ヘリコン波プラズマエッチング装置1では、ウェハ50にプラズマエッチング処理を施すための処理室2が設けられ、その処理室2内にステージ部3が配設されている。例文帳に追加
A helicon-wave plasma etching apparatus 1 is provided with a processing chamber 2 to etch a wafer 50 by plasma, wherein a stage 3 is provided. - 特許庁
本発明は、基板に対してヘリコン波プラズマを斜めから照射して洗浄箇所を効率的に洗浄できるようにした基板洗浄装置を提供することを目的とするものである。例文帳に追加
To provide a substrate cleaning apparatus for efficiently cleaning a cleaned place by obliquely irradiating a substrate with Helicon wave plasma. - 特許庁
ヘリコン波エッチング装置と処理用O_2 ガスを用い、酸素プラズマ33によるオリフィス25の孔空けを行なうと共にTi膜32表面に酸化Ti膜32−2を形成し、これを親水性領域28とする。例文帳に追加
An orifice 25 is bored by means of oxygen plasma 33 using a helicon wave etching system and O2 gas for processing and a Ti oxide film 32-2 is formed, as a hydrophilic region 28, on the surface of the Ti film 32. - 特許庁
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