フィースの英語

リソグラフィーストリップ及びその製造方法例文帳に追加

LITHOGRAPHY STRIP AND ITS MANUFACTURE - 特許庁

リソグラフィーストリップ及びその製造方法例文帳に追加

LITHOGRAPHY STRIP AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

いくつかの実施形態では、本発明による方法は、３つ以下のクロマトグラフィーステップを含む。例文帳に追加

In certain embodiments, the method contains not more than three chromatography steps. - 特許庁

マイクロエレクトロニック装置の製造に使用される方法で、第1速度でリソグラフィースキャナーを利用することにより基板上のダミー領域を露光し、第2速度でリソグラフィースキャナーを利用することによって基板上の製造領域を露光し、ここで第1速度は第2速度より実質的に大きい。例文帳に追加

The method used to manufacture microelectronic equipment, wherein a dummy field on a substrate is exposed by using the lithography scanner at a first speed, a production field on the substrate is exposed by using the lithography scanner at a second speed, and the first speed is substantially greater than the second speed. - 特許庁

本発明は、高性能、高スループットのリソグラフィースキャナーを利用して製造するマイクロエレクトロニクス装置およびその製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a microelectronic apparatus that is manufactured by using a high performance/throughput lithography scanner and a method for manufacturing the same. - 特許庁

関連する実施例で、第1速度でリソグラフィースキャナーの利用により、装置のあまり重要でない層の露光と、第2速度で、重要な層の露光で構成され、第1速度は、第2速度より実質的に大きいことを特徴とするマイクロエレクトロニック装置の製造に使用される方法。例文帳に追加

In a related embodiment, the exposure includes the exposure of a non-critical layer in the equipment using the lithography scanner at the first speed and the exposure of an important layer at the second speed, and the first speed is substantially greater than the second speed. - 特許庁

例えば微小鏡アレイを空間光変調器として使用した直接書き込みシステムでは、微小鏡アレイの各画素の角度を適切な強度の光線を反射したり反射しないようにするためにコンピュータ制御することによって、各光リソグラフィーステップにおいて基材上の個々のフィーチャーの結像（焼付）がフォトマスクを使用せずに行われる。例文帳に追加

For example, in the system using a micro mirror array as the spatial light modulator, the imaging (printing) of an individual feature on the substrate is done without the use of the photomask at each photolithographic step by carrying out computer control for the angle of each pixel of the micro mirror array so that light with proper strength is reflected or not. - 特許庁