ギャップの深さの英語

磁気ギャップＧは狭幅コア部３０Ｆに形成され、磁気ギャップＧの終端Ｇｂが、第２の段差部３５よりも先部に形成されて、磁気ギャップの深さ寸法Ｇｄが浅くなっている。例文帳に追加

A magnetic gap G is formed at the narrower-width core section 30F, a termination Gb of the magnetic gap G is formed at the front tip side than the second step section 35, and a depth dimension Gd of the magnetic gap is shallow. - 特許庁

下部磁極の磁気ギャップ深さに相当する位置に溝を設置し、ギャップ層材で覆って終った後、所要のギャップ層になるようにＣＭＰ法で加工する。例文帳に追加

A groove is formed at a position in a lower magnetic pole 14 which corresponds to a magnetic gap depth and, after the groove is covered with gap layer material, the material is processed by a CMP method to form a required gap layer 13. - 特許庁

またホルダ１２とホルダ１３は（ハ）（ニ）の位置決め部により、ギャップ深さ方向へ互いに位置決めされる。例文帳に追加

And the holders 12 and 13 are positioned by their walls in the direction of the gap depth. - 特許庁

深いビアエアギャップを形成する方法はウェハ同士の垂直積層を作成するのに用いられる。例文帳に追加

The method of forming a deep via-airgap is used to form a wafer to wafer vertical stacking. - 特許庁

コア本体は、その内周面が内側に隆起してなる突出部５を有し、該突出部５を含む領域に、複合樹脂を充填した磁気ギャップ部10が設けられて、突出部５の突出によって磁気ギャップ部10のギャップ深さＤｇが拡大されている。例文帳に追加

The core body has a protrusion part 5 formed by swelling the inner peripheral surface thereof inward, the magnetic gap part 10 filled with the composite resin is provided in a region including the magnetic protrusion part 5, and a gap depth Dg of the magnetic gap part 10 is increased by protruding the protrusion part 5. - 特許庁

２つのダミーコア２の磁気記録媒体摺動面において磁気ギャップＧ３と反対側の部分が面取り部Ｅとして他の部分より磁気ギャップＧ３の深さ方向に向かって急傾斜した傾斜面に形成されている。例文帳に追加

In the sliding face of the magnetic recording medium of the two dummy cores 2, a part on the opposite side from the magnetic gap G3 is formed, as a chamfered part E, on a slope inclined sharply from the other part to the depth direction of the magnetic gap G3. - 特許庁

更に、スペーサ材を球状とし凹形状部２６ａの深さ分だけ径を大きくすることによりギャップの変動を効果的に吸収して温度変化によるギャップムラの発生を確実に防止する。例文帳に追加

Variation of the gap is effectively absorbed to reliably prevent generation of gap unevenness due to temperature change by forming the spacer material in a spherical shape and enlarging the diameter thereof by the depth of the recess 26a. - 特許庁

このコーティング組成物ギャップを有する基板上に塗布し、１０００℃以下で加熱することにより、ギャップ深部まで埋設されたシリカ質膜を形成させることができる。例文帳に追加

By performing the coating on a substrate having a gap of the coating composition and performing the heating at temperature equal to or lower than 1,000°C, the siliceous film buried up to a gap deep part can be formed. - 特許庁