エルステッドの英語
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英訳・英語 oersted
「エルステッド」を含む例文一覧
該当件数 : 24件
エルステッドの100000番目と同等の磁場の強さの単位例文帳に追加
a unit of magnetic field strength equal to one-hundred-thousandth of an oersted発音を聞く - 日本語WordNet
アンペア回数毎メートル エルステッド例文帳に追加
ampere turn per meter, oersted発音を聞く - 日本法令外国語訳データベースシステム
キャリアの1000エルステッドにおける磁化σb、特定の条件下における開口部より脱離した脱離キャリアの1000エルステッドにおける磁化σaが0.90≦σa/σb<1.00を満たす。例文帳に追加
Magnetization σb of the carrier at 1,000 Oe and magnetization σa of a released carrier, at 1,000 Oe, released from an opening under specified conditions satisfy 0.90≤σa/σb<1.00. - 特許庁
少なくとも2種類の乾式現像粒子のうち少なくとも1種類の現像粒子は保磁力が50エルステッド〜250エルステッドの磁性現像粒子とする。例文帳に追加
At least one kind of developing particles of at least two kinds of developing particles are magnetic developing particles having 50 to 250 Oe coercive force. - 特許庁
1000〜4000エルステッドの間の保磁力値を持ち、低ノイズの磁気記録媒体を得るためのスパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加
To provide a sputtering target which has a coercivity value between 1,000 Oersted and 4,000 Oersted, and is suitable for obtaining a magnetic recording medium of low noise. - 特許庁
少なくとも結着樹脂と磁性体からなる磁性トナーにおいて、該磁性トナーがシリコーンオイルにより表面処理された無機微粉体を含有し、該磁性トナーの磁化が5kエルステッド磁場中において10〜25emu/gであり、かつ1kエルステッド磁場中において7〜20emu/gであることを特徴とする電子写真用トナー。例文帳に追加
The magnetic toner consisting of at least binding resin and magnetic substance incorporates inorganic impalpable powder whose surface is treated by silicone oil and the magnetization of the magnetic toner is 10 to 25 emu/g in 5 k oersted magnetic field and 7 to 20 emu/g in 1 k oersted magnetic field. - 特許庁
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「エルステッド」を含む例文一覧
該当件数 : 24件
少なくとも結着樹脂と磁性体からなる磁性トナーにおいて、該磁性トナーがシリコーンオイルによって処理された無機微粒子を含有し、該シリコーンオイルの遊離率が10〜70%であり、該磁性トナーの磁化が(1)5kエルステッド磁場中で10〜25emu/gであり、(2)1kエルステッド磁場中で7〜20emu/gであることを特徴とする。例文帳に追加
The magnetic toners consisting of at least a binder resin and magnetic material are characterized in that the magnetic toners contain inorganic particulates treated by a silicone oil; the liberation rate of the silicone oil is 10 to 70%; the magnetization of the magnetic toners is (1) 10 to 25 emu/g in a 5 kg oersted magnetic field and (2) 7 to 20 emu/g in a 1 kg oersted magnetic field. - 特許庁
ここで、磁性層は、少なくとも約2000エルステッド(Oe)の飽和保磁力を有する磁性メタリック顔料粒子と、顔料用のバインダー系と、を含有する。例文帳に追加
The magnetic layer contains magnetic metallic pigment particles having at least a saturation coercivity of about 2,000 oersted (Oe), and a binder system for a pigment. - 特許庁
固有保磁力が7000エルステッド以下の原料磁性粉を使用してなる合成樹脂磁石からなり、該磁石の配向方向を内側極異方としたことを特徴とする現像剤用シール磁石。例文帳に追加
In the magnetic seal for developer, consisting of synthetic resin magnet utilizing magnetic powder as raw material, whose inherent coersive force is ≤7,000 oersteds, an antitropy of inner polarity is imparted in the direction of the magnet orientation. - 特許庁
たとえば、磁気記録媒体は、2000エルステッド以上の保磁力と、磁束変調特性の1シグマ標準偏差0.06未満を有することができる。例文帳に追加
For example, the magnetic recording medium can have a coercive force of 2000 oersteds or more and one sigma standard deviation of the magnetic flux modulation characteristic of less than 0.06. - 特許庁
磁気記録層3は、板状比が1.5以上のBa−フェライトを用い、抗磁力が580〜720エルステッド、角形比が0.85以上であるものが好ましい。例文帳に追加
As the magnetic recording layer 3, it is preferable that a Ba-ferrite with a plate ratio of at least 1.5 is used and the coercive force of 580-720 oersted and a horny ratio of at least 0.85. - 特許庁
保磁力239kA/m(3000エルステッド)以上で外部磁場環境に強く、かつノイズ及びエクストラピークが小さい磁気記録媒体を得る。例文帳に追加
To obtain a magnetic recording medium having ≥239 kA/m coercive force (300 Oe), durability in an environment of an external magnetic field, and small noise and extra peak. - 特許庁
粒子サイズを0.5〜10μm、保磁力を2.39〜11.94kA/m(30〜150エルステッド)、飽和磁化を0.5〜20A・m^2/kg(0.5〜20emu/g)、比重を1.0〜4.0g/ccの範囲とする。例文帳に追加
The composite particle has a particle size of 0.5-10 μm, coercive force of 2.39-11.94 kA/m (30-150 oersted), saturation magnetization of 0.5-20 A×m^2/kg (0.5-20 emu/g) and a specific gravity of 1.0-4.0 g/cc. - 特許庁
メッキ成膜された軟磁性裏打ち層には、熱処理温度が250℃以上350℃以下、基板への印加磁場強度が10キロエルステッド(kOe)以上の範囲で条件選択されて磁場中熱処理が施される。例文帳に追加
The soft magnetic backing layer formed by the plating is subjected to heat treatment in a magnetic field with conditions selected in a range such that the heat treatment temperature is ≥250°C and ≤350°C and magnetic field intensity applied to the substrate is 10 kOe or more. - 特許庁
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