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エミッタ接合の英語
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英訳・英語 emitter junction
「エミッタ接合」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 159件
エミッタメサ12をもつ化合物半導体ヘテロ接合バイポーラトランジスタのエミッタを、ベース層4上に第1エミッタ層5、エミッタエッチング停止層6、第2エミッタ層7を順次堆積して形成する。例文帳に追加
The emitter of a compound semiconductor heterojunction bipolar transistor having an emitter mesa 12 is formed by sequentially stacking a first emitter layer 5, an emitter etching stopper layer 6, and a second emitter layer 7 on a base layer 4. - 特許庁
ベース・エミッタ接合をヘテロ接合にすると共に、ベース・コレクタ接合もヘテロ接合とする。例文帳に追加
A base emitter junction is formed as a heterojunction, and a base collector junction is also formed as a heterojunction. - 特許庁
エミッタ電極の厚みは、エミッタ電極50に注入されたボロンがエミッタ電極50内を拡散して、エミッタ−ベース接合部まで達しないように設定されている。例文帳に追加
The thickness of the emitter electrode is set in such a manner that boron implanted in the emitter electrode 50 does not diffuse in the emitter electrode 50 to reach an emitter-base joint. - 特許庁
エミッタ電極の厚みは、エミッタ電極50に注入されたボロンがエミッタ電極50内を拡散して、エミッタ−ベース接合部まで達しないように設定されている。例文帳に追加
A thickness of the emitter electrode 50 is set so that a boron implanted to the emitter electrode 50 does not reach the emitter-base junction due to boron diffusion into the emitter electrode 50. - 特許庁
エミッタまたはコレクタ領域はベース領域とヘテロ接合を形成する。例文帳に追加
The emitter region or the collector region forms the base region and heterojunction. - 特許庁
n型半導体からなるエミッタEは、ベースBに接合されている。例文帳に追加
An emitter E of the n-type semiconductor is jointed to the base B. - 特許庁
HBTのエミッタ層とエミッタキャップ層とのヘテロ接合界面におけるキャリアの空乏化の問題を解決すること。例文帳に追加
To solve the problem concerning carrier depletion in a heterojunction interface between an emitter layer and an emitter cap layer of an HBT. - 特許庁
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「エミッタ接合」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 159件
エミッタの2つの部分は、エミッタ−ベース接合部から任意の距離に配置された分離酸化物層112によって分離される。例文帳に追加
These two parts are isolated by an isolated oxide layer 112 arranged at an optional distance apart from an emitter base joint part. - 特許庁
こうして、エミッタ・ベース接合部の不純物プロファイルの最適化により、エミッタ・クラウディング効果を抑制する構成となっている。例文帳に追加
Thus, by the optimization of the impurity profile at the emitter-base joint, emitter crowding effect is suppressed. - 特許庁
エミッタ領域は、エミッタ−ベース間PN接合がベースカバー部50Bの絶縁薄膜40cの下面に終端するように形成する。例文帳に追加
The emitter region is formed such that an emitter/base pn junction terminates at the undersurface of the thin dielectric 40c of the base cover 50B. - 特許庁
改良型エミッタ−ベース接合を持つヘテロ接合バイポーラトランジスタ及びその製造方法例文帳に追加
HETEROJUNCTION BIPOLAR TRANSISTOR HAVING IMPROVED EMITTER-BASE JUNCTION, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE TRANSISTOR - 特許庁
エミッタポリシリコン電極からの不純物拡散によってエミッタ拡散層を形成するバイポーラトランジスタの製造方法において、エミッタベースの浅接合を実現した状態でトランジスタの寄生抵抗を低減させる。例文帳に追加
To reduce a transistor in parasitic resistance in a state of realizing shallow junction of an emitter base, in a method of manufacturing a bipolar transistor whose emitter diffusion layer is formed by diffusing impurities from an emitter polysilicon electrode. - 特許庁
バイポーラトランジスタにおいて、エミッタ電極引き出し配線層9をエミッタ領域5と、エミッタ領域5とベース領域3との接合近傍での空乏層領域21を完全に覆うような形状とする。例文帳に追加
In the bipolar transistor, an emitter electrode lead layer 9 is formed into such a shape as to completely cover the emitter region 5 and a depletion region 21 near the junction between the emitter region 5 and the base region 3. - 特許庁
半導体装置1において、化合物半導体素子2のヘテロ接合バイポーラトランジスタ20のエミッタ領域26上にエミッタ電極31が配設され、エミッタ電極31には層間絶縁膜40の開口部41Aを通してエミッタ主電極端子42Aが接続されている。例文帳に追加
In the semiconductor device 1, an emitter electrode 31 is arranged on an emitter region 26 of a heterojunction bipolar transistor 20 of a compound semiconductor element 2, and an emitter main electrode terminal 42A is connected to the emitter electrode 31 through an opening 41A of an interlayer dielectric 40. - 特許庁
本発明のヘテロ接合バイポーラトランジスタ1は、コレクタ層2、ベース層3、エミッタ層4及びエミッタキャップ層5を積層し、エミッタキャップ層5のメサ7端部にほぼ一致する断面T字型のエミッタ電極12bを有することを特徴とする。例文帳に追加
The heterojunction bipolar transistor 1 comprises a multilayer of a collector layer 2, a base layer 3, an emitter layer 4 and an emitter cap layer 5, and an emitter electrode 12b having a T-shaped cross-section substantially aligned with the end of a mesa 7 of the emitter cap layer 5. - 特許庁
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emitter junction
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