うきつさんばんちょうの英語

あるいは、リュックサック、バッグ、かばん、エキスパンダーのストラップに巻きつけ取り付けることができることを特徴とする傘取り付け用具。例文帳に追加

Alternatively the umbrella fixture can be installed by being wrapped by a strap of a knapsack, shoulder bag, suitcase or a suspender. - 特許庁

温調部は、ロードロック室を真空中から大気中にする場合に導入される気体の温度を調整して複数の基板に吹き付けることにより、ロードロック室に搬入された複数の基板を温調する例文帳に追加

The temperature adjusting unit adjusts the temperature of the plurality of substrates carried in the load lock chamber by adjusting the temperature of gas introduced at changeover from vacuum to air in the load lock chamber 220 and blowing the gas to the plurality of substrates. - 特許庁

これにより何らユーザーが操作しなくても引き続き同一の番組を視聴することができる。例文帳に追加

Thus, the same program can be viewed continually without any operation by the user. - 特許庁

番組の視聴を中断して情報の入手や入手された情報の確認を行っても、視聴を中断した番組を中断位置から引き続き視聴できるものとする。例文帳に追加

To allow a viewer to resume viewing a program from a point where the viewer interrupted viewing the program, even if it occurs to acquire information or to confirm the acquired information. - 特許庁

これにより、ユーザは時間延長された番組を引き続き見ることができ、また、放送局は所定の番組編成通りに放送を続けることができる。例文帳に追加

Thus, a user can continuously watch the time-extended program and the broadcasting station can continue broadcasting as a prescribed program formation is. - 特許庁

蝶着部４にテープ巻付け片５の基端部を蝶着し、これに巻き付けた粘着テープ６の表裏を被覆板２，３で被覆できる。例文帳に追加

The cover plates 2 and 3 can sandwich and protect the adhesive tape 6 wound around a tape winding piece 5 hinged to the hinged portions 4 of the cover plates 2 and 3 at the base end portion thereof. - 特許庁

熱量の差をガス温度、ガス流量、基板の移動速度、基板とガス吹き付け装置との距離の差でつけることを特徴とする。例文帳に追加

A difference of the heat amount is given by a gas temperature, a gas flow rate, moving speed of the substrate, and a difference between the substrate, and a gas spraying device. - 特許庁

基板１０１を反応炉１０４の中でヒータ１０５により９００℃に加熱して、基板１０１の表面に化学的気相成長法により複数のカーボンナノチューブ１０２を成長させ、引き続いて、基板１０１の温度を６５０に低下させ、より長いカーボンナノチューブ１０３に成長させる。例文帳に追加

The substrate 101 is heated to 900°C by a heater 105 in a reaction furnace 104 and a plurality of the carbon nanotubes 102 are grown on the surface of the substrate 101 by the CVD method and successively the temperature of the substrate 101 is lowered to 650°C to grow the carbon nanotube 103 more longer. - 特許庁