「いぬごえじ」の英語・英語例文・英語表現 - Weblio和英辞書

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いぬごえじの英語

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日英固有名詞辞典での「いぬごえじ」の英訳

いぬごえじ

地名

英語 Inugoeji

犬越路


「いぬごえじ」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 49979



例文

上記化合物半導体の例としては、ZnGaN、ZnInN、ZnInGaN、ZnAlN、ZnAlGaN、ZnAlInN、および、ZnAlGaInNを挙げることができる。例文帳に追加

The compound semiconductor includes ZnGaN, ZnInN, ZnInGaN, ZnAlN, ZnAlGaN, ZnAlInN, and ZnAlGaInN. - 特許庁

AlN層の厚みが2.5nm以上8nm以下である。例文帳に追加

Thickness of the AlN layer is 2.5 nm to 8 nm. - 特許庁

要塞は長い籠城に堪えぬ例文帳に追加

The fortress can not hold out a long siege.発音を聞く  - 斎藤和英大辞典

当該窒化物半導体ナノ粒子は、新規の組成を有する新規のII−III−N化合物半導体(例えば、ZnGaN、ZnInN、ZnInGaN、ZnAlN、ZnAlGaN、ZnAlInN、または、ZnAlGaInN)によって形成されている。例文帳に追加

The nitride semiconductor nanoparticle is formed of a new II-III-N compound semiconductor having a new composition (for example, ZnGaN, ZnInN, ZnInGaN, ZnAlN, ZnAlGaN, ZnAlInN or ZnAlGaInN). - 特許庁

n−GaInN第2クラッド層5は、非単結晶状態のn−GaInNからなる。例文帳に追加

The n-GaInN second clad layer 5 comprises n-GaInN in non-single crystal state. - 特許庁

この城は長い籠城には堪えぬ例文帳に追加

The castle can not stand a long siege.発音を聞く  - 斎藤和英大辞典

例文

Nch MOSトランジスタNMT12のドレインは、Nch MOSトランジスタNMT11、NMT12、NMT21、NMT22、NMT31、NMT32、NMT41、NMT42、NMT51、及びNMT52のゲートに接続される。例文帳に追加

A drain of the Nch MOS transistor NMT 12 is connected to gates of the NMT 11 of Nch MOS TRANSISTOR of the NMT12, NMT21, NMT22, NMT31, NMT32, NMT41, NMT42, NMT51, and NMT52. - 特許庁

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「いぬごえじ」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 49979



例文

Cu−Ni−Si−Zn系合金Snめっき条例文帳に追加

Sn-PLATED STRIP OF Cu-Ni-Si-Zn-BASED ALLOY - 特許庁

死ぬ前に実現させたい物事例文帳に追加

something that one wishes to carry out before he発音を聞く  - EDR日英対訳辞書

n×a+(n−1)×0.5<A<n×a+(n−1)×5(mm) 但し、nは2以上の正数例文帳に追加

(mm), wherein n is a positive number of 2 or more. - 特許庁

この粒子に対する低融点コーティング系にはIn、Sn、およびIn−Sn、Sn−Pb、Bi−Sn−In、InAgなどの合金が含まれる。例文帳に追加

A low-melting-point coating system for the particles contains In, Sn and In-Sn, Sn-Pb, Bi-Sn-In or InAg alloy. - 特許庁

Cu−Zn−Sn系合金板及びCu−Zn−Sn系合金Snめっき条例文帳に追加

Cu-Zn-Sn ALLOY PLATE AND TIN-PLATED Cu-Zn-Sn ALLOY STRIP - 特許庁

カスコード型カレントミラー回路50には、Nch MOSトランジスタNMT11、NMT12、NMT21、NMT22、NMT31、NMT32、NMT41、NMT42、NMT51、及びNMT52が設けられる。例文帳に追加

A cascoded current-mirror circuit 50 includes Nch MOS transistors NMT11, NMT12, NMT21, NMT22, NMT31, NMT32, NMT41, NMT42, NMT51, and NMT52. - 特許庁

30nm<UL<250nm 8nm≦PL≦ 25nm 10nm≦TL≦200nm 30nm≦RL≦200nm (ロ)記録層がAg、In、Sb、Teを主構成元素とする。例文帳に追加

(b) The recording layer has main constituent elements of Ag, In, Sb and Te. - 特許庁

例文

GaN結晶は、下地体5と、GaN結晶530,550とを備える。例文帳に追加

The GaN crystal has a ground body 5 and GaN crystals 530,550. - 特許庁

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