****************sikiedu光照烘焙教程***************
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1、Ctr+shift+F,让摄像机与编辑场景的视角一样！
2、如果物体烘焙时UV出现问题（报错），可以修改模型generate lightmap uvs 从而产生自身的光子UV（注意材质uv和物体的lightUV是两套系统，lightUV是光子在物体上的分布）
3、只有勾选static的物体才接受、产生GI
4、灯光的real模式，是与GI设置中的Realtime模式匹配的，会每一帧都实时计算GI（耗时）
5、real、mix、bake区别
6、
Subtractive模式只支持一盏主光源的阴影，而且没有高光烘焙，但是其GI计算开销很小
Shawdowmask模式：间接光、阴影都烘焙
Bakedindirect模式：只拷贝间接光，其他（阴影）都是实时的
7、directionality（灯光方向贴图）信息在normal贴图中是必需具备的信息
8、final gather选项，在最终烘焙时勾选！
9、
①indirect intensity调整全局的间接光强度，（每个灯光的间接光强度也可以单独调整）
②albedo boost调整固有色过爆的问题
10、albedo：漫反射率（固有色）
11、如果希望某个物体的lightmap烘焙速度提升，可以将scale in lightimap变小
12、如果让非静态（动态）物体，接收（参与）GI，两种方案
①灯光设置为mix（可以同时支撑动态、静态物体），并同时开启realtimeGI、mixGI，但是这样比较消耗计算(一般只开启一种GI计算)
②静态物体GI使用烘焙的；动态物体的GI使用灯光探针
13、受光信息越丰富、变化越多的地方，其灯光探针的设置越多，主要在明暗分界线、色彩分界线上设置两组进行过渡
15、
①反射探针主要针对室内（除环境球反射外），实质是将制定反射探针包裹的范围景物，进行cube截取，形成一个cube天空盒（类似）
②反射探针只影响在其box范围内的物体，超出反射探针box，物体只受environment reflection map 的影响。
16、如果要物体左右移动，反射探针实时反映其的反射变化，应该将反射探针归零，然后作为动态物体的子物体（否则反射会偏移），如图所示：
17、
18、要给烘焙的物体，勾选上generate lightmap uvs选项，否则烘焙的lightmap会出错！（与材质UV是两套系统）
19、如果烘焙后的贴图比较模糊，可以将compress lightmap选项关闭
20、light（全局光）面板中影响光子图生成质量的参数解析：
21、Unity post processing asset包路径（官方asset资源包）：
22、镜头边角光晕效果：chromatic aberration（边角模糊）；vignette（镜头边角压黑）
23、Unity 批处理（batchs）优化draw cell
注意：给物体设置完batch static后，还应该在player中开启batching（动态、静态）
25、occlusionCulliing遮挡剔除（只有相机视口之内的物体渲染，视口之外的不渲染）
